[实用新型]一种波长可调的标准具有效
| 申请号： | 201621386524.X | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN206431362U | 公开（公告）日： | 2017-08-22 |
| 发明（设计）人： | 徐冰;菅云峰;周军;罗巧梅 | 申请（专利权）人： | 浙江中电智能科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙)31105 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 316000 浙江省舟山市定海区临城街道体育路*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 波长 可调 标准 | ||
1.一种波长可调的标准具，其特征在于，该标准具包括矩形基片（1）和楔形基片（2），所述矩形基片（1）包括第一反射面S1（11）和第二反射面S2（12），所述楔形基片（2）包括第三反射面S3（21）和第四反射面S4（22），所述第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之间形成谐振腔（3），所述第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之间的距离L为谐振腔（3）的腔长，所述第三反射面S3（21）为相对于第二反射面S2（12）倾斜的斜面，所述第三反射面S3（21）与第二反射面S2（12）之间的夹角α为0.1′-1′，所述矩形基片（1）垂直固定在基座（4）上，所述楔形基片（2）下端通过微调驱动基座（5）设置在基座（6）上，通过微调驱动基座（5）上下运动带动楔形基片（2）沿竖直方向上下移动，楔形基片（2）上下移动从而达到腔长L的改变，从而实现中心波长λ的改变，所述楔形基片的高度为H，所述楔形基片上下移动的变化值记为ΔH，所述腔长的变化值记为ΔL，所述ΔL=ΔH×tanα。
2.根据权利要求1所述的波长可调的标准具，其特征在于，入射的光束在第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之间多次反射形成多光束干涉，多光束干涉的中心波长λ与厚度L之间的关系为：多光束干涉的中心波长λ=2×n×L×cosθ/k，所述n为矩形基片（1）和楔形基片（2）之间的空气的折射率，θ为光束在第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）的入射角，k为干涉级数，k取值为正整数。
3.根据权利要求1所述的波长可调的标准具，其特征在于，所述微调驱动基座为毫米量级微电子机械调节基座。
4.根据权利要求1所述的波长可调的标准具，其特征在于，所述微调驱动基座为毫米量级压电陶瓷微调基座。
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