[实用新型]一种单晶炉副室氩气填充喷头有效
| 申请号: | 201621046712.8 | 申请日: | 2016-09-11 |
| 公开(公告)号: | CN206157262U | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
| 发明(设计)人: | 张刚 | 申请(专利权)人: | 保定爱廸新能源股份有限公司;英利能源(中国)有限公司 |
| 主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 单晶炉副室氩气 填充 喷头 | ||
1.一种单晶炉副室氩气填充喷头,其特征在于:包括喷头主体,所述喷头主体中部具有与单晶炉提拉头配合的通孔,所述喷头主体的上部设有进气管接头、所述喷头主体的内部设有气道,所述喷头主体的下部设有若干个出气孔,所述进气管接头与所述气道连通,所述出气孔也与所述气道连通。
2.根据权利要求1所述的单晶炉副室氩气填充喷头,其特征在于:所述喷头主体、所述进气管接头、所述出气孔为一体成型的不锈钢材质,所述气道为环形。
3.根据权利要求2所述的单晶炉副室氩气填充喷头,其特征在于:所述出气孔有8个,均匀分布在所述喷头主体的下部。
4.根据权利要求3所述的单晶炉副室氩气填充喷头,其特征在于:所述进气管接头有两个,对称分布在所述喷头主体的上部。
5.根据权利要求3所述的单晶炉副室氩气填充喷头,其特征在于:所述进气管接头有四个,对称分布在所述喷头主体的上部。
6.根据权利要求1-5任一项所述的单晶炉副室氩气填充喷头,其特征在于:所述喷头主体的厚度为20mm,所述出气孔凸出所述喷头主体外的长度为2mm。
7.根据权利要求6所述的单晶炉副室氩气填充喷头,其特征在于:出气孔为喇叭口形状,所述出气孔的大口朝向单晶炉副室。
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