[发明专利]一种利用干膜进行玻璃材质微流控芯片在常温下键合的方法有效
| 申请号: | 201611253767.0 | 申请日: | 2016-12-30 |
| 公开(公告)号: | CN106582904B | 公开(公告)日: | 2018-10-23 |
| 发明(设计)人: | 范一强;王玫;庄俭;唐刚;张亚军 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
| 主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
| 代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
| 地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 利用 进行 玻璃 材质 微流控 芯片 常温 下键合 方法 | ||
1.一种利用干膜进行玻璃材质微流控芯片在常温下键合的方法,其特征在于:该方法具体包括以下步骤:
S1微流控芯片的基底材料为含有微流道微结构的基底,盖片和基底的材料为玻璃;
S2干膜的上下层分别设有上层保护层、下层保护层;首先揭去干膜的下层保护层,将干膜平贴于盖片上;
S3然后揭去干膜的上层保护层,将基底材料平贴于干膜上,微流控芯片各层的叠放顺序为盖片-干膜-基底;
S4将制作好的微流控芯片通过过塑机,过塑机对微流控芯片进行初步压合并去除盖片-干膜-基底中的气泡,增加各层材料贴合的平整程度;
S5将微流控芯片放置在隔绝紫外光的黑箱中10分钟-20分钟;
S6将叠放顺序为盖片-干膜-基底的微流控芯片送入紫外曝光机中进行曝光,曝光时间为2-5分钟,紫外波长值分布在340nm-400nm,辐射能为1200μw/cm2-2500μw/cm2;
S7紫外曝光完成后,静置10分钟-20分钟以达到最大的键合强度。
2.根据权利要求1所述的一种利用干膜进行玻璃材质微流控芯片在常温下键合的方法,其特征在于:为确保固化后的干膜不堵塞玻璃基底上的微流道,在完成方法流程后,将碳酸钠与离子水的混合溶液注入微流道,一次循环即可冲洗清除干净微流道中残留的干膜残留聚合物,从而保证微流道通畅。
3.根据权利要求1所述的一种利用干膜进行玻璃材质微流控芯片在常温下键合的方法,其特征在于:S1中的基底和盖片材料为石英玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃或铅硅酸盐玻璃。
4.根据权利要求1所述的一种利用干膜进行玻璃材质微流控芯片在常温下键合的方法,其特征在于:利用干膜作为中间粘性材料对玻璃基底和盖片进行键合,此处的干膜具有三层结构:上保护膜、下保护膜和中间紫外固化涂层的薄膜材料。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学,未经北京化工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611253767.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于光热波导的微流控芯片及其微流控方法
- 下一篇:可自动退吸头的移液器





