[发明专利]一种对称L形金属超构表面分束器以及制备方法

权利要求书

1.一种对称L形金属超构表面分束器，其特征在于，包括：

金属反射层；

镀在金属反射层上的SiO₂层；以及

在SiO₂层上形成的金属膜，所述金属膜由多个周期性分布的分束器结构单元组成，所述分束器结构单元由相同数量n个L形结构和相同数量n个L形结构镜面对称的反L形结构在平面上依次排列构成，n根据不同工作波段取2-10，每个L形金属结构的边长为工作波长的五分之一，线宽为工作波长的十五分之一，厚度为工作波长的二十分之一。

2.根据权利要求1所述的对称L形金属超构表面分束器，其特征在于，在1000-1400nm的工作波段中，所述L形结构和其镜面对称的反L形结构其金属膜边长250±10nm，线宽80±10nm，厚度60±10nm，每个平行L形结构的间距为500±20nm。

3.根据权利要求1所述的对称L形金属超构表面分束器，其特征在于，分别由3个L形结构和3个L形结构镜面对称的反L形结构构成，重复周期为3000±120nm。

4.根据权利要求1所述的对称L形金属超构表面分束器，其特征在于，金属结构为导电性良好的金属膜,包括银膜、金膜和合金膜。

5.根据权利要求1所述的对称L形金属超构表面分束器，其特征在于，所述分束器结构单元的重复单位是2n*4n。

6.一种权利要求1所述对称L形金属超构表面分束器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

利用高精度镀膜工艺进行金属反射层的制备，采用电子束蒸发或者磁控溅射的方法制备金属反射层，在波长为1000-1400nm近红外波段中厚度为120±20nm；

然后用气相沉积的方法在金属反射层上面蒸镀一定厚度的SiO₂，在1000-1400nm的工作波段中厚度为140±10nm；

利用旋转涂膜仪在SiO₂表面形成电子束胶膜；

利用电子束曝光技术在电子束胶上制备平行L形结构的反结构；

再利用电子束蒸发技术在电子束胶表面蒸镀60±10nm厚度的金属膜；

最后利用除胶剂除去未曝光部分的电子束胶，就形成了对称L形金属超构表面等能分束器。

7.根据权利要求6所述的对称L形金属超构表面分束器的制备方法，其特征在于，所述反射层为导电性良好的金属薄膜，包括银膜、金膜和合金膜。

8.根据权利要求6所述的对称L形金属超构表面分束器的制备方法，其特征在于，所述L形金属结构的边长250±10nm，线宽80±10nm，厚度60±10nm。