[发明专利]带有磁控溅射类金刚石碳膜的金属型材的制备方法

权利要求书

1.一种带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）在中空金属板上表面制备凹槽；然后在凹槽上表面制备氮化钛层；然后在氮化钛层上表面磁控溅射制备类金刚石碳膜；

（2）在实心金属板上表面制备埋孔；然后在埋孔内部填充泡沫前驱体；接着在埋孔上表面覆盖热压钢板；然后将带有热压钢板的实心金属板于1MPa下，80～90℃加热3～5分钟；接着于120～130℃加热8～12分钟；自然冷却后去除钢板得到缓冲板；所述泡沫前驱体包括二硫吡啶碳酸酯、邻苯二甲腈、碳酸氢钠、二月桂酸二丁基锡、二异氰酸酯、2,6-二苯基嘧啶-4-酮、丙酮；

（3）将3-甲基-2-吡啶酮、二（三甲基硅）乙酰胺、二苯基氧膦、单羟基七乙烯基多面体齐聚倍半硅氧烷、4-乙烯基苯甲酸甲酯、氮化硼、己二酸二（3,4-环氧基-6-甲基环己基甲酸）与丁酮混合；然后挥发溶剂形成凝胶体；

（4）在缓冲板下表面复合凝胶体，热处理得到带有弹性体的缓冲板；然后在带有类金刚石碳膜的中空金属板下表面安装带有弹性体的缓冲板，得到带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材。

2.根据权利要求1所述带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于：步骤（1）中，所述凹槽为复数个平行排列的凹槽，每个凹槽贯穿中空金属板上表面；凹槽深度为中空金属板厚度的30～40%。

3.根据权利要求1所述带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于：步骤（1）中，所述氮化钛层的厚度为0.1～0.15微米；所述类金刚石碳膜层的厚度为0.3～0.4微米。

4.根据权利要求1所述带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于：步骤（2）中，所述缓冲板上表面设有复数个埋孔；所有埋孔的面积和为缓冲板上表面积的22～25%；埋孔的孔径为1.2～1.5毫米；埋孔的深度为缓冲板厚度的55～60%。

5.根据权利要求1所述带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于：步骤（4）中，所述缓冲板与中空金属板复合的一面设有安装柱。

6.根据权利要求1所述带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于：步骤（2）中，二硫吡啶碳酸酯、邻苯二甲腈、碳酸氢钠、二月桂酸二丁基锡、二异氰酸酯、2,6-二苯基嘧啶-4-酮、丙酮的质量比为1∶（0.05～0.08）∶（0.03～0.05）∶（0.0003～0.0005）∶（0.65～0.76）∶（0.15～0.26）∶（5～6）。

7.根据权利要求1所述带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于：步骤（3）中，单羟基七乙烯基多面体齐聚倍半硅氧烷、二（三甲基硅）乙酰胺、二苯基氧膦、3-甲基-2-吡啶酮、4-乙烯基苯甲酸甲酯、氮化硼、己二酸二（3,4-环氧基-6-甲基环己基甲酸）与丁酮的质量比为1∶（0.15～0.18）∶（0.003～0.005）∶（0.53～0.55）∶（0.15～0.16）∶（0.12～0.13）∶（0.25～0.26）∶（10～15）。

8.根据权利要求1所述带有磁控溅射类金刚石碳膜结构的金属型材的制备方法，其特征在于：步骤（4）中，弹性体的厚度为0.5～0.65毫米；热处理工艺为70℃/5min+90℃/12min+110℃/10min。