[发明专利]显示基板及其制作方法、以及显示装置有效

专利信息
申请号: 201610805295.9 申请日: 2016-09-06
公开(公告)号: CN106373982B 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 李小龙;李艺;许晓伟;刘政 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;C23C14/24
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 李烨,李峥
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制作方法 以及 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括多个像素单元,像素单元包括发光层及像素定义层;

其中,所述像素定义层包括第一区域和第二区域;所述第一区域和所述第二区域设置在所述发光层的周围,以使得所述像素定义层至少围绕所述发光层;所述第一区域具有第一厚度,所述第二区域具有第二厚度;所述第一厚度大于所述第二厚度;并且

其中,所述像素单元包括多个子像素;所述发光层设置于各个子像素中;所述像素定义层还包括位于相邻两个子像素之间的第三区域,所述第三区域具有第三厚度,所述第三厚度小于第一厚度、第二厚度。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其中,

所述第一区域和所述第二区域被配置为在蒸镀过程中对于蒸镀材料进行遮挡,以形成预定形状的发光层。

3.根据权利要求1所述的显示基板,其中,

所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域被配置为在蒸镀过程中对于蒸镀材料进行遮挡,以形成预定形状的发光层。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其中,所述像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素;所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素呈“品”字形排列。

5.根据权利要求4所述的显示基板,其中,所述第一子像素是蓝色子像素,所述第二子像素是红色子像素,所述第三子像素是绿色子像素。

6.根据权利要求4至5中任一项所述的显示基板,其中,

所述第一子像素、第二子像素以及第三子像素是矩形;所述第二子像素、第三子像素设置于同一列;所述第一子像素面积大于所述第二子像素、所述第三子像素;

所述第一子像素的第一边与第二子像素、第三子像素所在列平行,所述第一子像素的第二边与第一边垂直;

在围绕所述发光层的所述像素定义层中,与所述第一子像素的第二边邻接的区域是所述第一区域,相邻两个子像素之间的区域是所述第三区域,其它区域是所述第二区域。

7.根据权利要求6所述的显示基板,其中,所述第一厚度的设定值大于等于1.8μm小于等于2.2μm,所述第二厚度的设定值大于等于0.7μm小于等于1.2μm,所述第三厚度的设定值大于等于0.1μm小于等于0.3μm。

8.根据权利要求7所述的显示基板,其中,所述第一厚度的设定值是2μm,所述第二厚度的设定值是1μm,所述第三厚度的设定值是0.1μm。

9.一种显示基板的制作方法,其中,所述显示基板包括多个像素单元,像素单元包括发光层及像素定义层;所述显示基板的制作方法包括:

形成像素定义层;所述像素定义层至少包括第一区域和第二区域;所述第一区域具有第一厚度,所述第二区域具有第二厚度;所述第一厚度大于所述第二厚度;所述像素定义层至少围绕发光层形成区域;

蒸镀以在所述发光层形成区域中形成发光层,在蒸镀过程中,所述第一区域和所述第二区域对于蒸镀材料进行遮挡,以形成像素单元的预定形状的发光层;

其中,所述像素单元包括多个子像素;所述发光层设置于各个子像素中;所述像素定义层还包括位于相邻两个子像素之间的第三区域,所述第三区域具有第三厚度,所述第三厚度小于第一厚度、第二厚度。

10.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法,其中,使用喷墨打印形成像素定义层,或者使用采用了灰阶掩模版的光刻法形成所述像素定义层。

11.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法,

其中,所述像素单元包括第一子像素、第二子像素和第三子像素;并且

其中,所述第一子像素、第二子像素以及第三子像素是矩形;所述第二子像素、第三子像素设置于同一列;所述第一子像素面积大于所述第二子像素、所述第三子像素;所述第一子像素的第一边与第二子像素、第三子像素所在列平行,所述第一子像素的第二边与第一边垂直;

在围绕所述发光层的所述像素定义层中,与所述第一子像素的第二边邻接的区域是所述第一区域,相邻两个子像素之间的区域是所述第三区域,其它区域是所述第二区域。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610805295.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top