[发明专利]一种硅片水平清洗装置

说明书

本发明公开的一种硅片水平清洗装置，包括传输机构、毛刷机构、超声机构、喷淋机构和烘干机构，传输机构具有引入硅片的上游以及输出硅片的下游，毛刷机构、超声机构以及喷淋机构均设置于传输机构的上游与下游之间，烘干机构设置于传输机构的下游，毛刷机构用于刷洗硅片表面，超声机构用于超声清洗硅片，喷淋机构用于向接受刷洗或超声清洗的硅片喷淋清洗液，烘干机构用于干燥处理经毛刷机构、超声机构和喷淋机构处理后的硅片。本发明的一种硅片水平清洗装置在水平刷洗过程中辅助于超声、喷淋的机械物理作用，减少甚至彻底避免了化学试剂的使用，同时降低纯水消耗及能耗，提高了硅片清洗的自动化程度及清洗效率。

技术领域

本发明属于硅片清洗设备技术领域，具体涉及一种硅片水平清洗装置。

背景技术

随着世界经济的不断发展，现代化建设对高效能源需求不断增长。光伏发电作为绿色能源以及人类可持续发展的主要能源的一种，日益受到世界各国的重视并得到大力发展。单晶硅片、多晶硅片作为光伏发电的太阳能电池片的基础材料，拥有广泛的市场需求。

在太阳能电池的加工过程中，为了保证硅片表面具有较高的洁净度，需要大量清洗液冲洗并配合化学腐蚀、超声波振荡以及加热等化学、物理作用以去除硅片表面的污染物。目前，硅片清洗多采用槽式清洗机，在槽式清洗机内，硅片在花篮等机构的承载下，以垂直于水平面的竖直状态，经过酸洗槽和/或碱洗槽、多个漂洗槽，完成清洗过程。硅片槽式清洗方式存在纯水用量高、化学药剂添加量大、废水处理困难、能耗较高、自动化程度低、清洗速度慢等缺点。

发明内容

本发明的目的在于提供一种硅片水平清洗装置，解决了现有的槽式清洗机存在的纯水和化学药剂用量高、废水多以及自动化程度低的问题。

本发明所采用的技术方案是：一种硅片水平清洗装置，包括传输机构、毛刷机构、超声机构、喷淋机构和烘干机构，传输机构用于承载并传输硅片，传输机构具有引入硅片的上游以及输出硅片的下游，毛刷机构、超声机构以及喷淋机构均设置于传输机构的上游与下游之间，烘干机构设置于传输机构的下游，毛刷机构用于刷洗硅片表面，超声机构用于超声清洗硅片，喷淋机构与毛刷机构、超声机构相对应，用于向接受刷洗或超声清洗的硅片喷淋清洗液，烘干机构用于干燥处理经毛刷机构、超声机构和喷淋机构处理后的硅片，烘干机构的上游还另外设置有一个喷淋机构，该喷淋机构用于对进入烘干工序前的硅片喷淋纯水进行清洗。

本发明的特点还在于，

毛刷机构包括至少一个第一表面毛刷和至少一个第二表面毛刷，第一表面毛刷和第二表面毛刷分别位于传输机构的两侧且交错设置，第一表面毛刷的同侧设置有构成喷淋机构的喷淋头，第二表面毛刷的同侧设置有构成喷淋机构的喷淋头；第一表面毛刷和第二表面毛刷处对应的传输机构为皮带传输结构；

硅片表面分为第一表面和第二表面；在第一表面毛刷用于刷洗硅片第一表面的同时，喷淋头向硅片第一表面喷淋清洗液；在第二表面毛刷用于刷洗硅片第二表面的同时，喷淋头向硅片第二表面喷淋清洗液；

超声机构包括至少一组超声振板，每组超声振板包括相对设置的第一表面超声振板和第二表面超声振板，第一表面超声振板设置在第一表面毛刷的同侧，第二表面超声振板设置在第二表面毛刷的同侧；超声机构处对应的传输机构为滚轮传输结构。

第一表面毛刷和第二表面毛刷均为一个，第一表面毛刷设置在第二表面毛刷的上游，超声机构设置在第二表面毛刷的下游；超声机构包括至少两组超声振板，第一表面超声振板间隔或连续设置，第二表面超声振板间隔或连续设置；在第二表面毛刷与超声机构之间设置至少一组挤水滚轮，每组挤水滚轮包括相对设置的上挤水滚轮和下挤水滚轮，上挤水滚轮和下挤水滚轮之间具有供硅片通过的空隙。

第一表面毛刷和第二表面毛刷均为两个，在超声机构的上游设置一个第一表面毛刷和一个第二表面毛刷，在超声机构的下游设置一个第一表面毛刷和一个第二表面毛刷；