[发明专利]一种调控式Cu离子原位掺杂TiO2纳米管阵列的制备方法有效
| 申请号: | 201610693801.X | 申请日: | 2016-08-19 |
| 公开(公告)号: | CN106222724B | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
| 发明(设计)人: | 汤丁丁;史德亮;李亚龙;刘凤丽 | 申请(专利权)人: | 长江水利委员会长江科学院 |
| 主分类号: | C25D11/26 | 分类号: | C25D11/26;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人: | 崔友明 |
| 地址: | 430010 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 调控 cu 离子 原位 掺杂 tio2 纳米 阵列 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于纳米材料制备领域,涉及一种调控式Cu离子原位掺杂TiO2纳米管阵列的制备方法。
背景技术
TiO2纳米管阵列具有优异的光(电)催化活性和化学稳定性,广泛应用于光(电)催化产氢、光(电)催化治理环境污染物和太阳能电池等领域。Cu离子掺杂后形成能量较低的掺杂能级以吸收可见光,拓宽光谱响应范围,同时还可以在TiO2表面形成氧空位,促使Ti3+氧化中心的形成,有利于电荷俘获并抑制电子-空穴复合,提升光量子效率。目前,Cu离子掺杂TiO2纳米管阵列主要采用常规的后期引入方式,即先制备TiO2纳米管阵列,再通过化学或电化学等方法将Cu离子引入至TiO2纳米管阵列表面。但该方式存在以下两方面难题:
1.TiO2纳米管阵列管底为封闭结构,Cu离子从管口进入,依靠扩散作用向管内输入,因管内溶液缺乏流动性,Cu离子扩散至管底的过程中易形成浓度差,使管口区域的Cu离子溶度较高,沉积也较多,而接近管底区域的Cu离子溶度较低,沉积也较少,Cu离子浓度差造成了掺杂不均匀的现象;
2.TiO2纳米管阵列结构致密,管与管之间空隙非常小,管外壁难以有效附着Cu氧化物。
这两方面难题导致大部分Cu氧化物集中在管开口处,分散程度较差,管开口处掺杂效果较好,但随着管长的延伸管内掺杂效果逐渐下降,并且管外壁难以掺杂。近年来,研究者们采用提前引入法对TiO2纳米管阵列进行金属离子掺杂,取得了良好的效果。该方法以钛合金代替纯钛作电解阳极,提前引入掺杂金属,制备了金属离子原位掺杂的TiO2纳米管阵列。但提前引入的金属掺杂量主要由钛合金成分决定,因此该方法存在金属离子掺杂比例难以调控的问题。众多研究表明掺杂比例是金属离子改性TiO2光催化性能的决定性因素之一。如 Choi等系统研究了不同掺杂比例(0.1-3at%)的21种金属离子对TiO2光催化活性的影响,发现除无改性效果的金属离子外,纳米TiO2的光催化性能随金属离子掺杂比例的增加,表现出先上升后下降的抛物线型变化规律,研究认为掺杂量需要控制在适宜的比例(约0.5at%),比例过少不能充分发挥掺杂的作用,过多则会引起大量的结构缺陷,形成电子-空穴的复合中心。López等详细探索了不同比例(0.1-5wt%)Cu掺杂纳米TiO2的性能,发现0.5wt%的掺杂比例具有最佳的光催化性能,1wt%和0.1wt%的掺杂比例效果相当,更过量的掺杂会引起性能的退化。TA13合金中Cu含量较高,由其制备的纳米管阵列可能也存在Cu离子掺杂过量的问题。因此,对Cu离子原位掺杂TiO2纳米管阵列进行再处理,以优化Cu离子的掺杂比例,可实现光催化性能的最优化。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种成本低、工艺简单的调控式Cu离子原位掺杂TiO2纳米管阵列的制备方法。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是:一种调控式Cu离子原位掺杂TiO2纳米管阵列的制备方法,包括以下步骤:
1)以TA13合金片或TA13合金棒为阳极,Pt片或Pt棒为阴极,在含氟溶液中阳极氧化制备Cu离子原位掺杂TiO2纳米管阵列,清洗样品;
2)利用Cu和Ti的化学性质差异,通过选取恰当的酸溶液,并精确控制浸出条件,采用超声辅助选择性酸溶解法浸出部分Cu离子,实现纳米管阵列中的Cu离子含量的定量调控;
3)调控完成后清洗,干燥即得到调控式Cu离子原位掺杂量TiO2纳米管阵列。
按上述方案,步骤1)所述的阳极氧化的电压为5-50V,温度为20-50℃,时间为30min-4 h。
按上述方案,步骤2)所述的超声辅助采用的超声波频率为30-60KHz,所加入的酸溶液 pH为1-4。
按上述方案,步骤2)所述的溶解温度为20-60℃,溶解时间为20min-4h。
按上述方案,所述的含氟溶液为含氟化铵的有机溶液或含氢氟酸的无机溶液。
按上述方案,所述的含氟溶液为含氟化铵的乙二醇、丙三醇溶液或含氢氟酸的水溶液。
按上述方案,所述的酸溶液为有机酸或无机酸。
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