[发明专利]盐穴储气库造腔过程气水界面控制模拟实验系统有效

专利信息
申请号: 201610681172.9 申请日: 2016-08-16
公开(公告)号: CN107764509B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 李龙;李建君;巴金红;翁小红;汪会盟;刘春;刘继芹;陈加松;程林;刘玉刚;李金龙;施锡林;杨春和;李银平 申请(专利权)人: 中国石油天然气股份有限公司
主分类号: G01M10/00 分类号: G01M10/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 董亚军
地址: 100007 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 盐穴储气库造腔 过程 水界 控制 模拟 实验 系统
【权利要求书】:

1.一种盐穴储气库造腔过程气水界面控制模拟实验系统,其特征在于,所述系统包括:

模拟盐腔,用于模拟盐穴储气库造腔工艺形成的盐腔,所述模拟盐腔采用透明材料制成,所述模拟盐腔上设有刻度线,所述模拟盐腔的底部设有卤水排放阀门;

液压源,用于向所述模拟盐腔内注入卤水;

气压源,用于向所述模拟盐腔内注入气体、以及从所述模拟盐腔中抽出气体;

采集单元,包括设置在所述液压源的输出端的液体压力传感器、设置在所述气压源的输出端的气体压力传感器、设置在所述模拟盐腔的顶部的顶部压力传感器、设置在所述模拟盐腔的底部的底部压力传感器、设置在所述模拟盐腔内的液位传感器、相对所述气水界面设置的录像设备,所述液体压力传感器、所述气体压力传感器、所述顶部压力传感器、所述底部压力传感器、所述液位传感器、所述录像设备分别与控制电路电连接;采集单元用于采集所述液压源的压力、所述气压源的压力、以及所述模拟盐腔内气垫层的压力、卤水层的压力、卤水层的液位、气水界面的波动情况;

控制电路,用于根据所述采集单元采集的所述液压源的压力控制所述液压源,根据所述采集单元采集的所述气压源的压力控制所述气压源,并将所述采集单元采集的所述模拟盐腔内气垫层的压力、卤水层的压力、卤水层的液位、气水界面的波动情况传输给终端;

所述终端,用于输出所述模拟盐腔内气垫层的压力、卤水层的压力、卤水层的液位、气水界面的波动情况;

其中,所述液压源包括卤水容纳腔和水泵,所述水泵与所述控制电路电连接,所述水泵的输入口与所述卤水容纳腔连通,所述模拟盐腔和所述液压源之间通过卤水输送管道连通,所述卤水输送管道的一端与所述液压源的水泵的输出口连通,所述卤水输送管道的另一端穿过所述模拟盐腔的顶部延伸到所述模拟盐腔的底部,所述液压源和所述模拟盐腔之间的所述卤水输送管道上设有卤水输送阀门;

所述气压源包括气泵,所述气泵的一个输气口与大气连通,所述气泵与所述控制电路电连接,所述模拟盐腔和所述气压源之间通过气体输送管道连通,所述气体输送管道的一端与所述气压源的气泵的另一个输气口连通,所述气体输送管道的另一端与所述模拟盐腔的顶部连通,所述气压源和所述模拟盐腔之间的所述气体输送管道上设有气体输送阀门;

所述模拟盐腔、所述液压源、所述气压源上均设置有所述采集单元,所述液压源、所述气压源、所述采集单元、所述终端分别与所述控制电路电连接。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述终端还用于,向所述控制电路发送指令;

所述控制电路用于,根据所述指令控制所述液压源和所述气压源。

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