[发明专利]泡沫铬及其制备方法有效
| 申请号： | 201610568973.4 | 申请日： | 2016-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN106048705B | 公开（公告）日： | 2018-01-16 |
| 发明（设计）人： | 张波;冯海涛;李波;李武;董亚萍;梁建;郑竹林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院青海盐湖研究所 |
| 主分类号： | C25F3/08 | 分类号： | C25F3/08;C25F3/14;C22C1/08 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,黄进 |
| 地址： | 810008*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 泡沫 及其 制备 方法 | ||
1.一种泡沫铬的制备方法，所述泡沫铬包括铬骨架以及位于所述铬骨架内部且彼此贯通的多个孔室；其特征在于，包括步骤：
A、将含铬固体置于酸性电解液中；
B、对所述含铬固体进行电蚀刻，以形成铬骨架及位于所述铬骨架内部且彼此贯通的多个孔室。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤B中，采用方波电位法对所述含铬固体进行电蚀刻。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，采用方波电位法对所述含铬固体进行电蚀刻时，工作电极为所述含铬固体，对电极的材料选自不锈钢、铅、钛合金、金、铂中的任意一种。
4.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，采用方波电位法对所述含铬固体进行电蚀刻时，电位上限为0.5V～6V，电位下限为-6V～3V，方波频率为0.01Hz～1000Hz，电蚀刻的时间为10s～600min，所述酸性电解液的温度为20℃～100℃；其中，所述电位上限和所述电位下限均以饱和甘汞电极作为参比电极进行测定时获得。
5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述酸性电解液选自硫酸水溶液、盐酸水溶液、硝酸水溶液、磷酸水溶液、柠檬酸水溶液、醋酸水溶液、抗坏血酸水溶液中的任意一种或至少两种的混合。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述酸性电解液的pH为0～3。
7.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，对所述含铬固体进行电蚀刻时，所述酸性电解液呈流动状态。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述酸性电解液流动时的流量不超过10m3/h。
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