[发明专利]光学成像薄膜及其制备方法在审
| 申请号: | 201610167931.X | 申请日: | 2016-03-22 |
| 公开(公告)号: | CN107219570A | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
| 发明(设计)人: | 张健 | 申请(专利权)人: | 昇印光电(昆山)股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 党晓林 |
| 地址: | 215316 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 成像 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种光学成像薄膜,其特征在于,包括:
含有相背对的第一表面和第二表面的本体;
在所述本体的第一表面设置的聚焦结构;
在所述本体的第二表面或所述本体的内部设置的依次层叠的N层图文结构,N为大于1的正整数;其中,
每一层所述图文结构均位于所述聚焦结构的成像范围内,在所述成像范围内每一层所述图文结构均能通过所述聚焦结构形成悬浮影像。
2.根据权利要求1所述的光学成像薄膜,其特征在于,所述本体、所述聚焦结构和所述N层图文结构为一体结构。
3.根据权利要求2所述的光学成像薄膜,其特征在于,用于制成所述聚焦结构和所述N层图文结构的聚合物与用于制成所述本体的聚合物为同一种聚合物;或者用于制成所述聚焦结构的聚合物和用于制成所述N层图文结构中第一层图文结构的另一种聚合物之间形成有融合部分,且用于制成剩余N层所述图文结构的聚合物与用于制成所述第一层图文结构的聚合物相同。
4.根据权利要求1所述的光学成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构的制成材料和每层所述图文结构的制成材料之间的折射率差值均小于0.5。
5.根据权利要求1所述的光学成像薄膜,其特征在于,每一层所述图文结构距离所述聚焦结构的焦平面的距离在所述聚焦结构的焦距的0.7倍-1.3倍之间。
6.根据权利要求1所述的光学成像薄膜,其特征在于,每一层所述图文结构所形成的悬浮影像的高度与每一层所述图文结构与所述聚焦结构之间的距离满足如下关系式:
其中,di为所述悬浮影像的高度;fi为第i层图文结构与所述聚焦结构之间的距离;R为聚焦结构的曲率半径;xi为第i层图文结构的水平坐标;xMLA为聚焦结构的水平坐标;i的取值范围为1~N。
7.根据权利要求1所述的光学成像薄膜,其特征在于,每一层所述图文结构均含有多个图文单元,位于不同层图文结构中的图文单元在水平面上的投影不重合。
8.根据权利要求7所述的光学成像薄膜,其特征在于,每一层图文结构中的每个图文单元所在水平位置与相邻层图文结构中两个相应图文单元之间的间隔相对应。
9.根据权利要求1所述的光学成像薄膜,其特征在于,每一层所述图文结构均含有多个图文单元,位于同一层图文结构中的图文单元的颜色相同,位于不同层图文结构中的图文单元的颜色不同。
10.根据权利要求1或2所述的光学成像薄膜,其特征在于,
在所述N等于2时,所述本体的第二表面上设置有凹槽或凸起,以形成第一层图文结构,在所述第一层图文结构中远离所述聚焦结构的一侧形成有凹槽或凸起,以形成第二层图文结构;
在所述N大于2时,所述本体的第二表面上设置有凹槽或凸起,以形成第一层图文结构,在所述第一层图文结构中远离所述聚焦结构的一侧形成有凹槽或凸起,以形成第二层图文结构,在第j+1层图文结构中远离第j层图文结构的一侧形成有凹槽或凸起,以形成第j+2层图文结构,j为1~N-2之间的正整数。
11.根据权利要求1-9任一项所述的光学成像薄膜,其特征在于,所述聚焦结构包括凸透镜、凹透镜、菲涅尔透镜或柱透镜。
12.根据权利要求1-9任一项所述的光学成像薄膜,其特征在于,所述本体的透光率大于0.7。
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