[发明专利]含有六氟磷酸根的铜配位化合物及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及铜配位化合物，具体地，涉及含有六氟磷酸根的铜配位化合 物及其制备方法。

背景技术

铜是地壳中较为丰富的过渡金属之一，其低毒，价廉，并且性质丰富而 受到广大化学工作者的青睐。近年来，在现代有机合成中，铜的配位化合物 作为催化剂被广泛应用于催化有机反应，来构筑不同的C-X化学键 (X＝C,O,S,N等)(Guo,X.-X.；Gu,D.-W.；Wu,Z.；Zhang,W.Copper-Catalyzed C–HFunctionalizationReactions:EfficientSynthesisofHeterocycles.Chemical Reviews2015,115,1622-1651.)。因而各种铜的配位化合物的合成与性质研究 成为化学研究的一项重点内容。铜的配位化合物在无机化学，有机化学、配 位化学、生物化学、医药、农药和功能材料等领域具有重要的应用价值。

六氟磷酸根在与过渡金属形成的配位化合物中作为负一价的阴离子来 平衡电荷，与过渡金属形成阴阳离子对，这样的化合物往往具有较好的水溶 性，并且易结晶，分离。通常含有六氟磷酸根阴离子铜的配位化合物主要选 用六氟磷酸盐，如六氟磷酸钾，六氟磷酸铵和六氟磷酸钠做为六氟磷酸根阴 离子的来源。现有的含有六氟磷酸根的铜配位化合物是通过将六氟磷酸盐作 为阴离子的来源参加反应，这样的制备方法在合成过程中主要存在合成工艺 复杂，操作步骤繁琐，纯化困难，产率较低等缺陷。

发明内容

本发明的目的是提供一种含有六氟磷酸根的铜配位化合物及其制备方 法，该方法制得的产物具有优异的产率，同时该方法操作简便，产物易提纯。

为了实现上述目的，本发明提供了一种含有六氟磷酸根的铜配位化合 物，该铜配位化合物的结构如式(I)所示，

其中，R₁、R₂各自独立地选自H、C1-C4的烷基。

本发明还提供了一种上述的含有六氟磷酸根的铜配位化合物的制备方 法，该制备方法为：在有机溶剂的存在下，将氟化铜、三苯基膦和如式(II) 所示结构的三齿含氮配体进行接触反应以制得铜配位化合物；

其中，R₁、R₂各自独立地选自H、C1-C4的烷基。

通过上述技术方案，本发明以氟化铜和三苯基膦为原料，原位反应得到 六氟磷酸根阴离子，所有的原料在空气中能够稳定存在，而且，反应条件温 和，高产率得到系列铜配位化合物。与传统和合成路线相比，本发明具有工 艺简单、操作简便、产率高，具有很好的工业应用前景。

本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与 下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在 附图中：

图1是实施例1中式(III)结构化合物的X-射线单晶结构衍射图；

图2是实施例1中式(III)结构化合物的核磁共振氢谱图；

图3是实施例1中式(III)结构化合物的核磁共振碳谱图。

具体实施方式

以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描 述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

本发明提供了一种含有六氟磷酸根的铜配位化合物，该铜配位化合物的 结构如式(I)所示，

其中，R₁、R₂各自独立地选自H、C1-C4的烷基。

在本发明提供的铜配位化合物中，R₁、R₂可以是H、C1-C4的烷基任何 一种基团，但是从产率上考虑，优选地，R₁、R₂各自独立地选自H、甲基或 异丙基。更优选地，R₁、R₂均为甲基；或者，R₁为H，R₂为异丙基。