[发明专利]g‑C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201610110551.2 | 申请日： | 2016-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN105688970B | 公开（公告）日： | 2018-03-02 |
| 发明（设计）人： | 汤琳;王佳佳;邓垚成;曾光明;刘雅妮;方伟;彭博;朱超 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | B01J27/24 | 分类号： | B01J27/24;C02F1/30;C02F101/38 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008 | 代理人： | 赵洪,黄艺平 |
| 地址： | 410082 湖南省长沙市河西岳*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | sub 修饰 掺杂 bi wo 复合 光催化剂 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂，其特征在于，所述g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂以g-C3N4为载体，所述g-C3N4载体上修饰有自掺杂Bi2WO6，所述自掺杂Bi2WO6包括Bi2WO6纳米片和铋金属粒子，所述铋金属粒子生长在Bi2WO6纳米片表面。
2.根据权利要求1所述的g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂，其特征在于，所述g-C3N4与自掺杂Bi2WO6的质量比为1～1.5∶1。
3.一种如权利要求1或2所述的g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）将g-C3N4加入到Bi(NO3)3·5H2O溶液中，得到悬浮液；
（2）将Na2WO4·2H2O溶液加入到所述步骤（1）得到的悬浮液中，得到混合液；
（3）所述步骤（2）得到的混合液进行水热反应，得到g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂。
4.根据权利要求3所述的g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中g-C3N4由g-C3N4前驱物焙烧制得，所述前驱物为三聚氰胺、尿素、硫脲和二氰二胺中的一种或几种。
5.根据权利要求4所述的g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂的制备方法，其特征在于，所述g-C3N4由g-C3N4前驱物经两段焙烧法制得，具体为：将g-C3N4前驱物在500℃～520℃温度下焙烧2h～4h后，继续升温至520℃～540℃焙烧2h～4h。
6.根据权利要求3所述的g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）中Bi(NO3)3·5H2O与步骤（2）中Na2WO4·2H2O的摩尔比为2～4∶1。
7.根据权利要求3所述的g-C3N4修饰的自掺杂Bi2WO6复合光催化剂的制备方法，其特征在于，所述步骤（3）中水热反应的温度为160℃～180℃，水热反应的时间为2h～4h。
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