[发明专利]一种微纳器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610016345.5 申请日: 2016-01-11
公开(公告)号: CN105645345B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 张跃;章潇慧;廖庆亮;关珣;张健华;苏子佳 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: B81B1/00 分类号: B81B1/00;B81C1/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司11401 代理人: 皋吉甫
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 器件 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种微纳器件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤一:对基片进行超声清洗并烘干;

步骤二:在所述基片上运用单原子沉积技术沉积ZnO纳米颗粒,形成ZnO纳米层;

步骤三:将沉积了所述ZnO纳米层的基片浸没到石墨烯量子点溶液中,在所述ZnO纳米层上自组装合成石墨烯量子点,构成了多层混合结构;

步骤四:通过紫外光照还原氯金酸的方法制备得到纳米Au胶体;

步骤五:将所述步骤三得到的多层混合结构浸没到酒精溶液中,并将所述步骤四得到的所述纳米Au胶体加入其中,构成混合溶液;以及

步骤六:在紫外灯光源的照射下,用磁力搅拌机搅拌所述步骤五得到的所述混合溶液,利用光催化降解合成将所述纳米Au胶体修饰到所述ZnO纳米层表面,形成纳米Au颗粒,形成所述微纳器件。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述基片选用硅片或者导电玻璃。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述基片的面积小于400cm2

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述ZnO纳米颗粒的粒度为1-50nm,所述ZnO纳米层的厚度为50-300nm。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述石墨烯量子点溶液的浓度为0.5-5mg/ml。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤六中的所述紫外灯光源的功率为50-500w。

7.一种微纳器件,其根据权利要求1的制备方法所制备。

8.根据权利要求7所述的微纳器件,其特征在于,所述ZnO纳米层的厚度为50-300nm。

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