[发明专利]单层或少层磷烯的液相剥离制备方法在审
| 申请号： | 201610014786.1 | 申请日： | 2016-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN105645366A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 陈长鑫;廖成浩 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C01B25/02 | 分类号： | C01B25/02 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王毓理;王锡麟 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 单层 少层磷烯 剥离 制备 方法 | ||
1.一种单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征在于，将片状黑磷与有机溶剂混合， 依次经超声裂解处理和离心处理后，将产物的上清液滴加于衬底上后经旋涂或烘干得到单层或 少层磷烯。
2.根据权利要求1所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的黑磷 与有机溶剂混合的比例为0.05mg/mL～500mg/mL。
3.根据权利要求1或2所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的 有机溶剂采用甲醇、乙醇、丙酮、异丙醇或其组合。
4.根据权利要求1所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的超声 裂解处理，采用功率为50W～400W的超声机内进行水浴超声2h～48h。
5.根据权利要求1或4所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的 水浴超声，水温温控制在30℃以下。
6.根据权利要求1所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的离心 处理，采用离心转速800～20000rpm处理5min～60min。
7.根据权利要求1所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的衬底 为带氧化层硅片。
8.根据权利要求1或7所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的 衬底为带有100～500nm氧化层的硅片。
9.根据权利要求1所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的旋涂， 采用速度为500～6000rpm旋涂10s～300s。
10.根据权利要求1所述的单层或少层磷烯的液相剥离制备方法，其特征是，所述的烘干， 采用温度为40℃～120℃烘干15min～200min。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学，未经上海交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610014786.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
