[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置有效
| 申请号： | 201610007270.4 | 申请日： | 2016-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN105607334B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 张锋;齐永莲;舒适;徐传祥;牛菁;刘静 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板，包括多种不同颜色的子像素，其特征在于，每个子像素均包括由反光材料构成的反光层，每个所述子像素的反光层均具有开口区，开口区中设有开口，且开口区的结构仅能够使得与该子像素颜色相同的光反射回去；所述反光层由导电反光材料构成，所述反光层为像素电极。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述不同颜色的子像素对应的像素电极为不同线宽的光栅结构，开口构成透光部，其余部分为遮光部。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述子像素包括黄色子像素、品红色子像素、青色子像素；
与所述黄色子像素对应的光栅结构的遮光部宽度为60nm，透光部宽度为140nm；
与所述品红色子像素对应的光栅结构的遮光部宽度为76nm，透光部宽度为124nm；
与所述青色子像素对应的光栅结构的遮光部宽度为92nm，透光部宽度为108nm。
4.一种阵列基板的制备方法，所述阵列基板包括多种不同颜色的子像素，其特征在于，包括形成反光层的步骤，每个所述子像素对应的反光层均具有开口区，开口区中设有开口，且开口区的结构仅能够使得与该子像素颜色相同的光反射回去；所述反光层由导电反光材料构成，所述反光层为像素电极。
5.根据权利要求4所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述反光层通过以下方法形成：
沉积反光材料形成反光层，然后采用掩膜板将所述反光层图案化。
6.一种反射式显示面板，其特征在于，包括权利要求1-3任一项所述的阵列基板。
7.一种显示装置，其特征在于，包括前置光源和权利要求6所述的反射式显示面板。
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