[发明专利]膜形成设备

权利要求书

1.一种用于处理基板上的薄膜的设备，包括：

真空腔室，包括外壳、后壁和可移除闭合板；

处理滚筒，在所述真空腔室内布置在所述后壁与所述可移除闭合板之间，所述处理滚筒至少部分地被处理区域包围；

第一工艺分隔壁部分，附接到所述可移除闭合板；和

第二工艺分隔壁部分，附接到所述外壳或所述后壁，其中于所述可移除闭合板的闭合位置中，所述第二工艺分隔壁部分布置在所述处理滚筒与所述第一工艺分隔壁部分之间的空间中，所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分共同提供工艺分隔壁，所述工艺分隔壁将所述处理区域分成相邻的处理区段；和

至少一个处理单元，附接到所述可移除闭合板。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述第一工艺分隔壁部分包括密封件。

3.如权利要求1所述的设备，其中所述第一工艺分隔壁部分包括可充气密封件。

4.如权利要求2所述的设备，其中所述密封件在所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分之间提供密封。

5.如权利要求2所述的设备，其中所述密封件在所述第一工艺分隔壁部分和所述第二工艺分隔壁部分之间和在所述第一工艺分隔壁部分和所述外壳之间提供密封。

6.如前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述第二工艺分隔壁部分与所述处理滚筒保持了预选距离，其中所述第二工艺分隔壁部分距所述处理滚筒的所述距离限定间隙。

7.如权利要求6所述的设备，其中所述间隙经构造以提供相邻处理区段之间的1:100或更好的气体分离因子。

8.如权利要求1至5中任一项所述的设备，进一步包括：

至少一个导辊，其中所述至少一个导辊和所述处理滚筒的面向所述可移除闭合板的端部通过轴承而附接到支撑板，所述支撑板连接到所述外壳。

9.如权利要求1至5中任一项所述的设备，其中所述真空腔室的所述外壳具有顶壁，所述顶壁具有凹槽，其中在所述凹槽内提供至少一个真空泵。

10.如权利要求1至5中任一项所述的设备，进一步包括另一第一工艺分隔壁部分，其中所述第一工艺分隔壁部分和所述另一第一工艺分隔壁部分与增强元件机械连接。

11.如权利要求1至5中任一项所述的设备，其中所述第一工艺分隔壁部分设有轴承板，所述轴承板支撑所述至少一个处理单元的端部。

12.如权利要求1至5中任一项所述的设备，进一步包括：

另一工艺分隔壁，设为刚性地附接到所述外壳或所述后壁的单件。

13.如权利要求12所述的设备，其中所述另一工艺分隔壁是所述处理区域上游的最后一个工艺分隔壁、所述处理区域下游的另一最后一个工艺分隔壁、或支撑所述处理滚筒的工艺分隔壁中的一个。

14.如权利要求1至5中任一项所述的设备，其中在打开位置中，所述可移除闭合板和所述第一工艺分隔壁部分一起移位。