[发明专利]光学指纹成像系统和面阵传感器

权利要求书

1.一种光学指纹成像系统，其特征在于，包括：透光盖板、背光源、设置于所述盖板和所述背光源之间的面阵传感器、以及光学组件；

其中，所述面阵传感器包括像素阵列，所述面阵传感器的像素具有不透光区域和透光区域，所述不透光区域包括感光器件，所述感光器件用于将入射光转换为电信号，所述透光区域被配置为所述背光源的光能够通过所述透光区域；

所述光学组件适于部分地阻挡从所述盖板到所述感光器件的光，并且被配置有至少一个光通道，所述光通道位于所述盖板和每个所述感光器件之间、且允许方向在预设范围内的光通过；

所述感光器件是光电二极管；

所述面阵传感器的基板作为所述盖板，且所述基板上形成有所述光电二极管；

所述光电二极管和所述基板之间形成有两个金属层和位于所述两个金属层之间的透光层；

每个所述金属层具有对应于每个所述光电二极管的至少一个透光孔，所述两个金属层中的所述透光孔至少部分重叠；所述两个金属层中的透光孔和位于其间的所述透光层形成所述光通道。

2.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述光学组件包括设置于所述面阵传感器与所述盖板之间的遮光层；所述遮光层具有与每个所述感光器件相对应的至少一个透光孔；所述遮光层中的至少一个透光孔作为所述光通道。

3.如权利要求2所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光孔为空洞或者填充有透光材料。

4.如权利要求2所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层具有与每个像素对应的透光部，所述透光部允许来自所述背光源的光穿过。

5.如权利要求4所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层的透光部包括多个孔，所述孔为空洞或填充有透光材料。

6.如权利要求2所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层具有多层结构。

7.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述光学组件设置在所述面阵传感器与所述盖板之间；所述光学组件包括至少两个遮光层、及设置于每相邻两个遮光层之间的透光层；每个遮光层具有与每个所述感光器件对应的至少一个透光孔，不同遮光层中的透光孔至少部分重叠；所述遮光层中的透光孔和位于所述遮光层之间的透光层形成所述光通道。

8.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光孔填充有所述透光层或透光材料。

9.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，每个所述遮光层具有与每个所述像素对应的透光部，所述透光部允许来自所述背光源的光穿过。

10.如权利要求9所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层的透光部包括多个孔，所述孔填充有透光层或透光材料。

11.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述遮光层具有多层结构。

12.如权利要求7所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光层具有多层结构。

13.如权利要求1至12中任一项所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述感光器件是光电二极管。

14.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述两个金属层分别作为所述面阵传感器的驱动线和数据线；所述透光层作为绝缘层、且由氮化硅或氧化硅制成。

15.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述金属层中的所述透光孔填充有所述透光层或透光材料。

16.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述金属层具有多层结构。

17.如权利要求1所述的光学指纹成像系统，其特征在于，所述透光层具有多层结构。