[发明专利]X射线成像的散射估计和/或校正

权利要求书

1.一种用于在光子计数X射线探测器中估计目标散射的方法，所述探测器具有安装在几何形的边缘上的至少两层探测器二极管或者在入射X射线方向上的至少两层二极管段，其特征在于，在目标散射具有缓慢变化的空间分布的假设下，基于在顶层和底层之间计数的差异来估计对所述至少两层的顶层中的计数的目标散射贡献。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述估计是在计算机断层摄影系统的台架的旋转期间对多个投影中的每一个投影进行估计的。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述X射线探测器是采用直接转换器材料的直接转换X射线探测器。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述直接转换器材料是硅。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述顶层用作所述底层的防散射栅格。

6.一种用于调整在分层光子计数X射线探测器中所测量的计数的方法，所述探测器具有安装在几何形的边缘上的至少两层探测器二极管或者在入射X射线方向上的至少两层二极管段，其特征在于：调整所测量的计数是至少基于根据权利要求1所述方法估计的目标散射，因而获得由于主要的X射线相互作用产生的计数的无偏估计。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：所测量的计数是基于所估计的目标散射和常量γ而被调整，所述常量涉及内部探测器散射作为来自主要的X射线相互作用与局部邻域中的计数之和的恒比γ。

8.一种用于估计在分层光子计数X射线探测器中吸收的散射辐射的总量和空间轮廓的方法，所述探测器具有安装在几何形的边缘上的至少两层探测器二极管或者在入射X射线方向上的至少两层二极管段，其特征在于：通过至少部分基于根据权利要求1所述方法估计的目标散射进行估计。

9.一种用于估计在具有至少两层探测器二极管的光子计数X射线探测器中的目标散射的装置，所述探测器具有安装在几何形的边缘上的至少两层探测器二极管或者在入射X射线方向上的至少两层二极管段，其特征在于：所述装置是被配置为在目标散射具有缓慢变化的空间分布的假设下，基于在顶层和底层之间的计数差异来估计对所述至少两个层的顶层中的计数的目标散射贡献。

10.一种用于调整在分层光子计数X射线探测器中所测量的计数的装置，所述探测器具有安装在几何形的边缘上的至少两层探测器二极管或者在入射X射线方向上的至少两层二极管段，其特征在于：所述装置包括权利要求9所述的装置。

11.一种用于估计在在分层光子计数X射线探测器中所吸收的散射辐射的总量和空间轮廓的装置，所述探测器具有安装在几何形的边缘上的至少两层探测器二极管或者在入射X射线方向上的至少两层二极管段，其特征在于：所述装置包括权利要求9所述的装置。

12.根据权利要求9至11中任一项的装置，其特征在于：防散射元件是被安装在多个二极管的每一个的背面上。

13.根据权利要求12所述的装置，其特征在于：所述防散射元件是钨薄片。

14.一种用于在由处理器执行时对在光子计数X射线探测器中进行估计的方法，所述探测器具有安装在几何形的边缘上的至少两层探测器二极管或者在入射X射线方向上的至少两层二极管段，其特征在于：由所述处理器执行计算机程序的指令，所述指令导致所述处理器在目标散射具有缓慢变化的空间分布的假设下，基于在顶层和底层之间的计数差异来估计对所述至少两个层的顶层中的计数的目标散射贡献。