[发明专利]对准方法

权利要求书

1.一种评估在以单个平面布置的衍射元件的平铺阵列中的第一衍射元件和第二衍射元件的相对对准的方法，其中，所述第一衍射元件包括网格或元件的二维阵列，所述第二衍射元件包括网格或元件的二维阵列，所述方法包括：

照射第一衍射元件以在远场中形成第一衍射图案，所述第一衍射图案包括第一行极大值，以及横穿所述第一行极大值的第二行极大值；

照射第二衍射元件以在远场中形成第二衍射图案，所述第二衍射图案包括第三行极大值，以及横穿所述第三行极大值的第四行极大值；

在远场中确定所述第一行极大值中的远离其中心极大值的极大值和所述第三行极大值中的远离其中心极大值的极大值之间的第一位置和/或旋转关系；并且

在远场中确定所述第二行极大值中的远离其中心极大值的极大值和所述第四行极大值中的远离其中心极大值的极大值之间的第二位置和/或旋转关系。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，基于所确定的第一位置和/或旋转关系和第二位置和/或旋转关系，使第一衍射元件相对于第二衍射元件旋转。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，进一步包括使第一衍射元件相对于第二衍射元件旋转，直到所确定的第一位置和/或旋转关系和第二位置和/或旋转关系为预定的位置和/或旋转关系。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，进一步包括使第一衍射元件相对于第二衍射元件旋转，直到第一衍射图案与第二衍射图案重叠。

5.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，进一步包括在使第一衍射元件相对于第二衍射元件旋转之后，通过以下步骤评估第一衍射元件和第二衍射元件的相对对准：

照射第一衍射元件以在远场中形成又一第一衍射图案，所述又一第一衍射图案包括又一第一行极大值，以及横穿所述又一第一行极大值的又一第二行极大值；

照射第二衍射元件以在远场中形成又一第二衍射图案，所述又一第二衍射图案包括又一第三行极大值，以及横穿所述又一第三行极大值的又一第四行极大值；

在远场中确定所述又一第一行极大值中的远离其中心极大值的极大值和所述又一第三行极大值中的远离其中心极大值的极大值之间的又一第一位置和/或旋转关系；并且

在远场中确定所述又一第二行极大值中的远离其中心极大值的极大值和所述又一第四行极大值中的远离其中心极大值的极大值之间的又一第二位置和/或旋转关系。

6.一种评估第一衍射元件和第二衍射元件的相对对准的方法，所述方法包括：

利用发散光或基本上准直的非相干光照射第一衍射元件以在远场中形成第一衍射元件的第一图像；

利用发散光或基本上准直的非相干光照射第二衍射元件以在远场中形成第二衍射元件的第二图像；以及

确定远场中第一图像和第二图像之间的位置关系。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，通过确定第一图像的第一特征和第二图像的第二特征之间的位置关系来确定远场中的第一图像和第二图像之间的位置关系。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其特征在于，所述方法包括基于所确定的位置关系，使第一衍射元件相对于第二衍射元件平移。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括使第一衍射元件相对于第二衍射元件平移，直到第一图像与第二图像之间的位置关系为预定的位置关系。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法包括使第一衍射元件相对于第二衍射元件平移，直到第一图像的一侧与第二图像的相应侧共线。