[发明专利]介质处理装置及介质交易装置有效
| 申请号: | 201580060464.4 | 申请日: | 2015-10-09 |
| 公开(公告)号: | CN107004321B | 公开(公告)日: | 2019-07-09 |
| 发明(设计)人: | 高田敦;高田正树;横川博 | 申请(专利权)人: | 冲电气工业株式会社 |
| 主分类号: | G07D9/00 | 分类号: | G07D9/00 |
| 代理公司: | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人: | 刘昕 |
| 地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 转筒 周侧面 卷绕 退卷 介质处理装置 方向旋转 旋转限制机构 收纳 交易装置 中心旋转 卷轴 带卷绕 限位部 旋转轴 圆筒状 移动 抵接 拉出 | ||
1.一种介质处理装置,包括:
转筒,其以圆筒状的旋转轴为中心旋转;
带,其与要被收纳的介质共同卷绕于转筒周侧面,该转筒周侧面为所述转筒的周侧面;
卷轴,其预先卷绕所述带,并伴随所述转筒的旋转拉出所述带;以及
旋转限制机构,其包括:限制部,卷绕于所述转筒周侧面的所述带妨碍该限制部的移动,而所述转筒朝使所述带退卷的退卷方向旋转,从而所述带从所述转筒周侧面分离,露出所述带卷绕处的所述转筒周侧面,从而该限制部移动;以及限位部,其与所述限制部抵接,从而限制所述转筒朝所述退卷方向旋转,
所述限制部还包括抵接于所述带并旋转的辊,所述辊抵接于所述带,从而向所述转筒内部的移动受到限制,
所述限制部与所述限位部抵接的部分,在所述转筒旋转时不与所述带接触。
2.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,
在所述旋转限制机构中,设为不与所述转筒同步旋转的所述限制部抵接于与所述转筒同步旋转的所述限位部,从而限制所述转筒的旋转。
3.根据权利要求2所述的介质处理装置,其中,
还包括施力部,其朝所述转筒的内部对所述限制部施力,
所述带从所述转筒分离从而露出所述转筒周侧面之后,所述限制部朝所述转筒内部移动并抵接于所述限位部,从而限制所述转筒的旋转。
4.根据权利要求3所述的介质处理装置,其中,
所述限位部是凹部,其在所述带卷绕于所述转筒上的位置从所述转筒周侧面向所述转筒的内部凹陷,且该限位部沿所述旋转轴方向的宽度短于所述带沿所述旋转轴方向的宽度。
5.根据权利要求4所述的介质处理装置,其中,
所述凹部是沿所述转筒的旋转方向从所述转筒周侧面向所述转筒的内部凹陷的槽部,
所述限位部是形成于所述槽部的限位面。
6.根据权利要求5所述的介质处理装置,其中,
还包括检测传感器,其检测所述限制部在所述槽部的移动。
7.根据权利要求6所述的介质处理装置,其中,
还包括控制部,其基于所述检测传感器的检测结果,控制所述转筒以使所述转筒停止旋转。
8.根据权利要求7所述的介质处理装置,其中,
在所述限制部抵接于所述限位面之前,所述控制部使所述转筒停止。
9.根据权利要求5所述的介质处理装置,其中,
还包括引导机构,其与所述带对置,且相对于所述介质设于与所述带相反的侧面,在所述介质从所述转筒送出时引导所述介质的表面。
10.根据权利要求9所述的介质处理装置,其中,
所述带在沿所述旋转轴的方向配置多个,
所述引导机构设于与多条所述带之中至少一条带相对的位置,所述限制部设于所述引导机构上。
11.根据权利要求1所述的介质处理装置,其中,还包括,
第二带,其与所述带之间夹有所述介质,并与所述带及所述介质一起卷绕于所述转筒周侧面;和
第二卷轴,其预先卷绕有所述第二带,并伴随所述转筒的旋转拉出所述第二带,
所述旋转限制机构包括:所述限制部,卷绕于所述转筒周侧面的所述带及所述第二带妨碍该限制部的移动,而所述转筒朝所述退卷方向旋转,所述带及所述第二带从所述转筒周侧面分离,露出所述带及所述第二带卷绕处的所述转筒周侧面,从而使所述限制部移动;以及所述限位部,其与所述限制部抵接,从而限制所述转筒朝所述退卷方向旋转。
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