[发明专利]离子液体电解质和电沉积金属的方法有效
| 申请号: | 201580026488.8 | 申请日: | 2015-04-14 |
| 公开(公告)号: | CN106661753B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
| 发明(设计)人: | P.贝纳本;J.布伦内克;E.马金;M.基罗斯-古兹曼 | 申请(专利权)人: | 尼奥工业有限责任公司;爱奥尼克研究技术有限责任公司;圣母大学 |
| 主分类号: | C25D3/66 | 分类号: | C25D3/66;C25D3/06;C25D3/10 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 刘国军 |
| 地址: | 美国印*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 离子 液体 电解质 沉积 金属 方法 | ||
本发明涉及一种电解质和使用该电解质在基材上电镀金属的方法。所述电解质包括咪唑鎓化合物、金属盐和水。所述咪唑鎓化合物具有式(I)的结构:其中R1、R2、R3、R4和R5各自独立地选自H原子和有机基团。L‑是相容的阴离子。所述金属盐可以包括但不限于金属Li、Mg、Ca、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Cd、Pb、Bi、La、Ce、Al、Ag、Au、Ga、V、In、Nb、Mo和W的盐。
发明背景
本发明涉及一种离子液体电解质和一种使用包含咪唑鎓化合物、金属盐和水的电解质在基材上电镀金属的方法。在一个实施方案中,咪唑鎓化合物具有式(I):
其中R1、R2、R3、R4和R5各自独立地选自H原子和具有1至20个碳原子的有机基团。L-是相容的阴离子。
镀铬是在许多工业应用中使用的表面处理,以增加耐磨性,提高被处理部件的摩擦系数并提供良好的表面外观(装饰应用)。目前,该表面处理使用六价铬((Cr((VI),例如三氧化铬CrO3,其在水中变成铬酸)的水溶液作为电解质进行。在浴液(bath)中存在作为催化产物的硫酸,氟硅酸盐或有机磺酸离子的条件下,Cr(VI)发生向金属铬Cr(0)的阴极还原。硬镀铬部件的沉积物的厚度是电镀操作的持续时间的函数,并且可以从0.1微米(装饰应用)到几百微米(功能应用)变化。
不幸的是,六价铬化合物被认为是高毒性和致癌的。因此,即使在镀铬电解还原后经处理的部件表面上不存在六价铬,并且即使在操作过程中严格控制和管理工艺,希望用其它的、更环保的处理方式来代替使用Cr(VI)镀铬。
发明简介
因此,本发明涉及一种离子液体电解质和一种使用包括咪唑鎓化合物,金属盐和水的离子液体电解质电镀基材的方法。在一个实施方案中,咪唑鎓化合物具有以下的通式(I)。基材可以包括在基材上的金属或导电层。所得到的金属层具有至少0.1μm的厚度。该方法可以在约20℃至约80℃之间的温度下和在约1至200A/dm2之间的电流密度下进行。
在其它实施方案中,离子液体电解质基本上由咪唑鎓化合物,金属盐和水组成。在其它实施方案中,离子液体电解质由咪唑鎓化合物,金属盐和水组成。
咪唑鎓化合物可以具有通式(I):
其中R1、R2、R3、R4和R5各自独立地选自H原子和有机基团,其在一些实施方案中可以具有1至20个碳原子。L-是相容的阴离子。
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