[发明专利]非接触供电系统以及对象物供电装置有效
| 申请号: | 201580014795.4 | 申请日: | 2015-03-25 |
| 公开(公告)号: | CN106103181B | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
| 发明(设计)人: | 高津裕二;德良晋;上田章雄;桥爪祥;阿久根圭;林亨 | 申请(专利权)人: | 株式会社IHI |
| 主分类号: | B60L11/18 | 分类号: | B60L11/18;H02J50/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 舒艳君,李洋 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 接触 供电系统 以及 对象 供电 装置 | ||
1.一种非接触供电系统,进行非接触供电,其中,
所述非接触供电系统具备:
供电用一次线圈,其能够进行非接触供电;以及
供电用二次线圈,其能够与所述供电用一次线圈之间进行非接触供电,
所述供电用二次线圈内含用于非接触供电的二次线圈线,并且形成至少在一部分具有凸状的曲面的二次外形,
所述供电用二次线圈的重心点偏离所述凸状的曲面的曲率中心而位于所述凸状的曲面的侧部,
所述供电用一次线圈内含用于非接触供电的一次线圈线,并且形成至少在一部分具有凹陷的一次外形,
所述凹陷包括第一凹陷以及第二凹陷,所述第二凹陷位于该第一凹陷的中心且是比该第一凹陷小的凹陷,
在所述二次外形的所述凸状的曲面嵌入于所述一次外形的所述第二凹陷且朝向所述供电用一次线圈的状态下,所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够进行非接触供电。
2.根据权利要求1所述的非接触供电系统,其中,
所述非接触供电系统具备中间壳体,所述中间壳体支承所述供电用二次线圈,
所述二次外形至少在一部分具有曲率半径固定的凸状的曲面,
所述中间壳体具有形成覆盖所述二次外形的所述凸状的曲面的、曲率半径固定的凹状的曲面的内壁,
在所述二次外形的所述凸状的曲面被引导至所述中间壳体的所述凹状的曲面且能够摆动的状态下,所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够进行非接触供电。
3.根据权利要求2所述的非接触供电系统,其中,
所述中间壳体内含中间线圈线,
所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够在所述中间线圈线进行中继来进行非接触供电。
4.根据权利要求3所述的非接触供电系统,其中,
所述供电用二次线圈内含作为一对二次线圈线的第一二次线圈线和第二二次线圈线,
所述第一二次线圈线沿着第一虚拟面卷绕,
所述第二二次线圈线沿着第二虚拟面卷绕,
所述第一虚拟面与所述第二虚拟面交叉。
5.一种非接触供电系统,进行非接触供电,其中,
所述非接触供电系统具备:
供电用一次线圈,其能够进行非接触供电;以及
供电用二次线圈,其能够与所述供电用一次线圈之间进行非接触供电,
所述供电用二次线圈内含用于非接触供电的二次线圈线,并且形成至少在一部分具有凸状的面的二次外形,
在将所述二次外形的所述凸状的面朝向所述供电用一次线圈的状态下,所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够进行非接触供电,
所述供电用一次线圈内含用于非接触供电的一次线圈线,并且形成至少在一部分具有凹陷的一次外形,
所述凹陷包括第一凹陷以及第二凹陷,所述第二凹陷位于该第一凹陷的中心且是比该第一凹陷小的凹陷,
在所述二次外形的所述凸状的面嵌入于所述一次外形的所述第二凹陷的状态下,所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够进行非接触供电。
6.一种非接触供电系统,进行非接触供电,其中,
所述非接触供电系统具备:
供电用一次线圈,其能够进行非接触供电;
供电用二次线圈,其能够与所述供电用一次线圈之间进行非接触供电;以及
中间壳体,其支承所述供电用二次线圈,
所述供电用二次线圈内含用于非接触供电的二次线圈线,并且形成至少在一部分具有凸状的面的二次外形,
在将所述二次外形的所述凸状的面朝向所述供电用一次线圈的状态下,所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够进行非接触供电,
所述二次外形至少在一部分具有曲率半径固定的凸状的曲面,
所述中间壳体具有形成覆盖所述二次外形的所述凸状的曲面的、曲率半径固定的凹状的曲面的内壁,
在所述二次外形的所述凸状的曲面被引导至所述中间壳体的所述凹状的曲面且能够摆动的状态下,所述供电用一次线圈和所述供电用二次线圈能够进行非接触供电。
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