[实用新型]一种旋转式电路板曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及电路板曝光机，特别是一种旋转式电路板曝光机。

背景技术

曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物（通常称为电子抗蚀剂或光刻胶）进行曝光，它常用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制领域。

在电路板板加工过程中，需要对电路板进行曝光，而目前最常用的曝光方式就是采用曝光机曝光，但是现有的曝光机在曝光时，因为曝光时间不固定，通常导致电路板曝光时间过长或则过短，从而导致电路板曝光的质量不稳定，而且现有的曝光机，如中国专利一种电路板曝光机（CN204740422U），这种曝光机在曝光时，电路板的曝光位置不在一个水平面上，从而导致照射到电路板上的光照强度不一样，从而导致电路板的曝光质量不稳定。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点，提供一种操作方便、曝光效率高和曝光质量好的旋转式电路板曝光机。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：一种旋转式电路板曝光机，它包括工作台、旋转平台和曝光室，所述的曝光室与工作台连接为一体，所述的旋转平台位于工作台上方，且可相对工作台转动，所述的曝光室内的顶部设置有若干曝光灯，在旋转平台的底部设置有一转轴，转轴连接有一驱动电机，所述的驱动电机安装台工作台内，所述的旋转平台上方对称设置有曝光平台，所述的工作台内还设置有一控制器，所述的控制器与驱动电机电连接。

所述的曝光平台包括曝光平台座和透明盖，所述的曝光平台座固定安装在旋转平台上，所述的透明盖与曝光平台座铰接在一起。

所述的透明盖的上表面上设置有一把手。

所述的曝光平台座的与透明盖通过合页铰接。

所述的曝光平台座的上表面为一光滑平面，且其上表面上贴覆有一层黑色的挡光膜。

本实用新型具有以下优点：本实用新型的电路板曝光机，设置有旋转平台，旋转平台上设置有曝光平台，从而使得电路板在曝光时，都处于同一水平面上，从而提高了曝光质量；而且旋转平台通过驱动电机控制，使得旋转平台转动的频率一致，从而使得电路板的曝光时间一致，从而进一步的提高了电路板的曝光质量；而且旋转平台上设置有两个对称的曝光平台，可以实现一个曝光平台曝光，另一挂曝光平台装电路板，从而提高了电路板的曝光效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图

图2为本实用新型的立体示意图

图中，1-工作台，2-旋转平台，3-曝光室，4-曝光灯，5-转轴，6-驱动电机，7-曝光平台，8-控制器，71-曝光平台座，72-透明盖。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步的描述，本实用新型的保护范围不局限于以下所述：

如图1和图2所示，一种旋转式电路板曝光机，它包括工作台1、旋转平台2和曝光室3，所述的曝光室3与工作台1连接为一体，所述的旋转平台2位于工作台1上方，且可相对工作台1转动，所述的曝光室3内的顶部设置有若干曝光灯4，在旋转平台2的底部设置有一转轴5，转轴5连接有一驱动电机6，所述的驱动电机6安装台工作台1内，所述的旋转平台2上方对称设置有曝光平台7，所述的工作台1内还设置有一控制器8，所述的控制器8与驱动电机6电连接，在本实施例中，控制器8将给驱动电机6一脉冲信号，驱动电机6接收脉冲信号后，驱动电机6工作，且驱动电机6每次转动180°，从而将旋转平台2上的两个曝光平台7的位置进行对调，从而实现一个曝光平台7进行电路板曝光，另一个曝光平台7则进行电路板放置，从而实现电路板的持续曝光，提高曝光效率。

在本实施例中，所述的曝光平台7包括曝光平台座71和透明盖72，所述的曝光平台座71固定安装在旋转平台2上，所述的透明盖72与曝光平台座71铰接在一起，进一步的所述的曝光平台座71的与透明盖72通过合页铰接。

在本实施例中，所述的透明盖72的上表面上设置有一把手73，操作人员拿取把手73则可轻松快捷的将透明盖72打开，以便于电路板能够快速的拿取和放置。

在本实施例中，所述的曝光平台座71的上表面为一光滑平面，且其上表面上贴覆有一层黑色的挡光膜，挡光膜能够降低曝光平台漏光，从而保证曝光效率。

本实用新型的工作过程如下：控制器8给驱动电机6一脉冲信号，驱动电机6接收脉冲信号后，驱动电机6工作，驱动电机6转动180°，然后将旋转平台2上的两个曝光平台7的位置进行对调，位于曝光室3内的电路板则进行曝光，操作人员则打开位于曝光室3外的曝光平台7，将曝光好的电路板取出，然后再将待曝光的电路板放置在曝光平台7上，然后再通过驱动电机6工作，使得两个曝光平台7的位置对调，如此重复工作，从而使得一个电路板曝光，另一个电路板取料放置，从而提高了电路板的曝光效率。