[实用新型]一种镀膜基片架及真空镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜基片架，其特征在于，包括用于传动和支撑的外部框架(1)和设置在所述外部框架(1)内的至少两个竖杆(2)和至少两个横杆(3)，每相邻的两个所述竖杆(2)和每相邻的两个所述横杆(3)围合成尺寸可调的内部框架(4)；每一所述竖杆(2)与每一所述横杆(3)滑动连接，每一所述竖杆(2)可沿所述横杆(3)的长度方向滑动，每一所述横杆(3)可沿所述竖杆(2)的长度方向滑动，以调节所述内部框架(4)的尺寸。

2.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，所述镀膜基片架还包括用于将每一所述竖杆(2)分别滑动连接在所述横杆(3)上的滑块(5)。

3.如权利要求2所述的镀膜基片架，其特征在于，每一所述横杆(3)沿其长度方向开设有凹槽(31)，所述滑块(5)包括与所述凹槽(31)匹配且用于滑动连接在所述凹槽(31)内的滑动部(51)和与所述滑动部(51)固定连接且用于夹持所述竖杆(2)的夹持部(52)。

4.如权利要求2所述的镀膜基片架，其特征在于，每一所述竖杆(2)沿其长度方向开设有凹槽(31)，所述滑块(5)包括与所述凹槽(31)匹配且用于滑动连接在所述凹槽(31)内的滑动部(51)和与所述滑动部(51)固定连接且用于夹持所述横杆(3)的夹持部(52)。

5.如权利要求3或4所述的镀膜基片架，其特征在于，所述凹槽(31)的横截面呈梯形。

6.如权利要求5所述的镀膜基片架，其特征在于，所述夹持部(52)的横截面呈梯形，且所述夹持部(52)的梯形横截面所在的平面垂直于所述滑动部(51)的梯形横截面所在的平面。

7.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，每一所述横杆(3)和竖杆(2)的两端均设置有U形螺孔(21)；所述镀膜基片架还包括与所述U形螺孔(21)配合且用于在所述内部框架(4)的尺寸确定时将所述横杆(3)和竖杆(2)固定在所述外部框架(1)上的紧固螺钉。

8.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，所述镀膜基片架包括两个所述竖杆(2)和两个所述横杆(3)。

9.如权利要求1所述的镀膜基片架，其特征在于，所述镀膜基片架由高温无氧铜材料或不锈钢材料制成。

10.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的镀膜基片架。