[实用新型]一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置有效
| 申请号: | 201520729465.0 | 申请日: | 2015-09-21 |
| 公开(公告)号: | CN204997529U | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
| 发明(设计)人: | 黄晓波;杭鲁滨;程武山;朱蓓;卢建伟;冯初锷;方潜锋 | 申请(专利权)人: | 上海工程技术大学 |
| 主分类号: | B24B55/02 | 分类号: | B24B55/02;B24B57/02;B24B37/34 |
| 代理公司: | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 | 代理人: | 周兵 |
| 地址: | 201620 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 双面 化学 机械 研磨 抛光 冷却 装置 | ||
1.一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,包括设于研磨抛光机构上的冷却机构、调节系统和显示控制系统,其特征在于:所述冷却机构包括冷却盘体,冷却盘体的内部通过冷却通道形成冷却腔,冷却通道包括内圈圆环形的通道和外圈环状波浪形的通道。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,其特征在于:所述研磨抛光机构包括上磨盘、下磨盘和下磨盘上的行星研磨部,上磨盘和下磨盘分别由电机无级调速驱动,上磨盘与加压气缸相连,行星研磨部包括中心齿轮、行星轮和外圈的大齿轮。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,其特征在于:所述冷却盘体设于下磨盘的下端,冷却盘体上设有冷却盘盖,冷却盘体和冷却盘盖通过螺钉相连,并且在连接处的冷却盘体内的外圈上设有密封圈。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,其特征在于:所述冷却腔通过拦件依次由内圈向外圈分隔成圆环形的第一通道、第二通道和环状波浪形的第三通道和第四通道,第一通道、第二通道、第三通道和第四通道依次相连形成迷宫状的冷却通道。
5.根据权利要求4所述的一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,其特征在于:所述第一通道的首端开设有冷却液进口;第四通道的末端开设有冷却液出口。
6.根据权利要求5所述的一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,其特征在于:所述冷却液进口处和冷却液出口处分别设有测温机构。
7.根据权利要求1所述的一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,其特征在于:所述调节系统包括第一调节部和第二调节部,第一调节部包括依次与冷却液进口相连的比例阀、电磁阀、减压阀、冷却液泵和冷却液箱,第二调节部包括流量计,冷却液出口通过流量计与冷却液箱相连,第一调节部和第二调节部通过旋转接头分别与冷却液进口和冷却液出口相连,减压阀与冷却液泵的连接处设有溢流阀。
8.根据权利要求1所述的一种晶圆双面化学机械研磨抛光用冷却装置,其特征在于:所述显示控制系统包括操作面板和上面的显示面板。
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