[实用新型]深度数据测量系统有效
| 申请号: | 201520727374.3 | 申请日: | 2015-09-18 |
| 公开(公告)号: | CN204944449U | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
| 发明(设计)人: | 王敏捷;梁雨时 | 申请(专利权)人: | 上海图漾信息科技有限公司 |
| 主分类号: | G01B11/22 | 分类号: | G01B11/22 |
| 代理公司: | 北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11452 | 代理人: | 屠长存 |
| 地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 深度 数据 测量 系统 | ||
1.一种深度数据测量系统,其特征在于,包括:
多个红外光投射装置,分别设置在待测空间中不同位置处,用于分别向所述待测空间中各自的投射范围投射红外光束,每个红外光投射装置与其投射范围中的待测物体之间的距离在第一阈值和第二阈值之间,所述第一阈值小于第二阈值,所述红外光束被调制以在所述待测空间中的待测物体上形成红外光纹理,所述红外光纹理被设计为其中各个纹理片段与其周围预定范围内的其它纹理片段相区别从而能被识别;
第一红外光成像装置,用于对所述待测空间进行拍摄以形成第一图像;
第二红外光成像装置,用于对所述待测空间进行拍摄以形成第二图像,所述第一红外光成像装置和所述第二红外光成像装置之间具有预定相对位置关系;
处理器,用于根据所述待测物体上的红外光纹理的纹理片段在所述第一图像中的第一纹理片段图像和所述第二图像中的第二纹理片段图像之间的位置差异,以及所述预定相对位置关系,确定所述纹理片段的深度数据。
2.根据权利要求1所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述红外光投射装置的投射光强被设定为:使得在距离大于或等于所述第一阈值的位置处的待测物体上形成的红外光纹理的光强低于安全强度规定上限。
3.根据权利要求2所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述第一阈值大于0.5米。
4.根据权利要求3所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述第一阈值在2米到3米之间。
5.根据权利要求1所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述红外光投射装置的投射光强被设定为:使得在距离小于或等于所述第二阈值的位置处的待测物体上形成的红外光纹理的光强高于所述第一红外光成像装置和所述第二红外光成像装置对其进行成像所需的光强。
6.根据权利要求5所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述第二阈值小于15米。
7.根据权利要求6所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述第二阈值在6米到10米之间。
8.根据权利要求1所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述多个红外光投射装置包括第一红外光投射装置和第二红外光投射装置,
第一红外光投射装置的投射范围与所述第一红外光成像装置和所述第二红外光成像装置之间的距离较近,而第二红外光投射装置的投射范围与所述第一红外光成像装置和所述第二红外光成像装置之间的距离较远,
所述第二红外光投射装置的投射光强被设定为大于所述第一红外光投射装置的投射光强。
9.根据权利要求1所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述多个红外光投射装置包括第一红外光投射装置和第二红外光投射装置,
第一红外光投射装置的投射范围与所述第一红外光成像装置和所述第二红外光成像装置之间的距离较近,而第二红外光投射装置的投射范围与所述第一红外光成像装置和所述第二红外光成像装置之间的距离较远,
所述第二红外光投射装束投射的纹理片段比所述第一红外光投射装置投射的纹理片段更稀疏。
10.根据权利要求1至9中任何一项所述的深度数据测量系统,其特征在于,
所述纹理片段是离散光斑。
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