[实用新型]自动防焊曝光台框模组及曝光机

权利要求书

1.一种自动防焊曝光台框模组，其特征在于：包括上框、上玻璃、上底片、薄膜介质、活动框和下框，活动框搭设于下框上方，薄膜介质套设于活动框上，待曝光的线路板位于薄膜介质上方；上底片放置于线路板的上表面；上玻璃位于上底片上方，上框设于上玻璃上方；上框、上玻璃、薄膜介质、活动框和下框具有吸真空结构；其中，上框、上玻璃和上底片构成台框模组的上面部分，薄膜介质、活动框和下框构成台框模组的下面部分，线路板则放置于下面部分。

2.根据权利要求1所述的自动防焊曝光台框模组，其特征在于：还包括下玻璃，属于台框模组的下面部分；下玻璃嵌设在活动框中，且位于薄膜介质下面。

3.根据权利要求2所述的自动防焊曝光台框模组，其特征在于：在薄膜介质与线路板之间具有下底片，下底片放置于薄膜介质上；下底片上具有定位机构，将待曝光的线路板套在定位机构上。

4.根据权利要求3所述的自动防焊曝光台框模组，其特征在于：所述下底片上的定位机构为若干定位钉，将待曝光的线路板套在下底片的定位钉上。

5.根据权利要求1所述的自动防焊曝光台框模组，其特征在于：所述上玻璃设置有顶出装置，嵌设在上玻璃开设的孔洞中，凸出于上玻璃表面。

6.根据权利要求1或5所述的自动防焊曝光台框模组，其特征在于：所述上玻璃的吸真空结构包括吸气孔和吸附沟槽，吸附沟槽围绕上玻璃构成一圈，吸气孔设于吸附沟槽的边缘并与吸附沟槽连通。

7.根据权利要求1或5所述的自动防焊曝光台框模组，其特征在于：所述上底片上设有对位点，线路板上设有对位靶，通过对位点与对位靶对线路板和上底片进行初步对位。

8.根据权利要求1所述的自动防焊曝光台框模组，其特征在于：所述薄膜介质为塑料薄膜，其四周嵌入于活动框中。

9.一种用于权利要求4所述的自动防焊曝光台框模组曝光的曝光机，包括主机，主机连接有控制机构，主机具有对位平台、光学对位装置、台框模组、曝光室、曝光光源和供电机构，台框模组安装于主机中；其特征在于：所述曝光光源包括上光源和下光源；活动框的边框下方具有电磁铁，对位平台上具有电磁铁吸附板，电磁铁吸附板与电磁铁对接；通过电磁铁吸附板与电磁铁吸附为一体，对位平台上升带动活动框整体上升离开下框与上底片进行对位。