[实用新型]一种设有上下喷淋器的结晶设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及结晶设备技术领域，具体涉及一种设有上下喷淋器的结晶设备。

背景技术

中国专利公开号为CN201271520，公开了一种自清洁结晶壳，包括壳体，壳体由下部的结晶沉降室、中部的蒸汽扩散室、上部的除沫器组成，壳体顶部和底部安装有封头，结晶沉降室的壳壁上设有进料口，与进料口连接的进料管安装于壳体内导流筒底部，结晶沉降室的底部设有搅拌装置和结晶物料出口，上部设有循环出料口，其特征在于蒸汽扩散室内、壳体顶部封头内分别安装有旋转式清洁喷嘴，所述的旋转式清洁喷嘴由供液管连接离心泵。其技术方案为增设旋转式清洁喷嘴，对壳壁微小物料颗粒产生的积垢进行有效冲洗，从而提高结晶效果，延长保养和维护的周期，但其清洁喷嘴为旋转结构，长期工作情况下容易因为承受水压过大而损坏无法旋转，或者承受水压过小而旋转速度过慢或者停止旋转，造成清洗不彻底有待改进，并且由于壳体积垢一般在壳壁上，旋转喷头无法将冲洗水全部作用于壳壁，造成水流损失和冲洗时间较长，有待改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的缺陷，设计一种清洗彻底、清洗时间短、大大延长使用寿命设有上下喷淋器的结晶设备。

为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：

一种设有上下喷淋器的结晶设备，其特征在于，所述结晶设备包括结晶器的壳体，所述壳体由下部的结晶沉降室、中部的蒸汽扩散室、上部的除沫器组成，壳体的顶部和底部均安装有封头，在结晶沉降室的壳体壁上设有进料口，与进料口连接的进料管安装于壳体内导流筒的底部，在结晶沉降室的底部设有搅拌器和结晶物料出口，上部设有循环出料口，在蒸汽扩散室内、壳体顶部封头内分别安装有清洁喷淋器，所述清洁喷淋器包括主管、以及安装于主管端部的分水球，所述分水球为空心球体，球体表面布设有出水孔，所述出水孔为沿球壁由小变大的圆锥形；在结晶沉降室的内还设有浓度分析仪，在结晶沉降室的外部还设有浓度显示器，在中部的蒸汽扩散室、上部的除沫器内均设有温度传感器和压力传感器。

其中优选的技术方案是，所述分水球的壁厚为10~12mm。

优选的技术方案还有，所述出水孔最大孔径为9mm，最小孔径为5mm。

优选的技术方案还有，在所述蒸汽扩散室内设置有至少一块清洗导流板，所述清洗导流板为不锈钢板体，与水平方向倾斜45度设置。

优选的技术方案还有，所述主管末端连接阀门和离心泵。

本实用新型的优点和有益效果在于：所述设有上下喷淋器的结晶设备大大提高清洗效率，延长使用寿命，并且结构简单，易于生产。通过浓度分析仪、温度传感器和压力传感器的检测结果可随时控制，进料口的进料量和清洁喷淋器的喷水量。

附图说明

图1是本实用新型设有上下喷淋器的结晶设备的结构示意图；

图2是图1中清洁喷淋器的剖视结构示意。

图中：1、壳体；2、封头；3、清洁喷淋器；4、清洗导流板；5、浓度分析仪；6浓度显示器；7、温度传感器；8、压力传感器；11、结晶沉降室；12、蒸汽扩散室；13、除沫器；14、进料口；15、进料管；16、导流筒；17、搅拌器；18、结晶物料出口；19、循环出料口；31、主管；32、分水球；33、出水孔。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

如附图1所示：本实用新型是一种设有上下喷淋器的结晶设备，所述结晶设备包括结晶器的壳体1，所述壳体1由下部的结晶沉降室11、中部的蒸汽扩散室12、上部的除沫器13组成，壳体1的顶部和底部均安装有封头2，在结晶沉降室11的壳体壁上设有进料口14，与进料口14连接的进料管15安装于壳体1内导流筒16的底部，在结晶沉降室11的底部设有搅拌器17和结晶物料出口18，上部设有循环出料口19，在蒸汽扩散室12内、壳体1顶部的封头2内分别安装有清洁喷淋器3，所述清洁喷淋器3包括主管31、以及安装于主管31端部的分水球32，所述分水球33为空心球体，球体表面布设有出水孔33，所述出水孔33为沿球壁由小变大的圆锥形；在结晶沉降室11的内还设有浓度分析仪5，在结晶沉降室11的外部还设有浓度显示器6，在中部的蒸汽扩散室12、上部的除沫器13内均设有温度传感器7和压力传感器8。

本实用新型优选的实施方案是，所述分水球32的壁厚为10~12mm。

本实用新型优选的实施方案还有，所述出水孔33最大孔径为9mm，最小孔径为5mm。