[实用新型]一种基于等离子体制备石墨烯薄膜的装置

权利要求书

1.一种基于等离子体制备石墨烯薄膜的装置，其特征是：包括气体调节阀(1)、质量流量计(2)、高压负电源(3)、阴电极(4)、样品支撑架(5)、阳电极(6)、石英管(7)、真空泵(8)、真空调节阀(9)、真空计(10)、负辉区(11)、法拉第暗区(12)；石英管(7)中间横向设有样品支撑架(5)，石英管上部设有阴电极(4)，石英管下部设有阳电极(6)，石英管上、下端设有密封橡皮塞，阴电极与样品支撑架之间设有负辉区(11)，阳电极与样品支撑架之间设有法拉第暗区(12)，气体调节阀(1)经质量流量计(2)、上端密封橡皮塞与石英管上部相连，高压负电源(3)经上端密封橡皮塞与阴电极(4)相连，真空泵(8)经真空调节阀(9)、真空计(10)、下端密封橡皮塞与石英管下部相连，阳电极(6)经下端密封橡皮塞接地。

2.根据权利要求1所述的一种基于等离子体制备石墨烯薄膜的装置，其特征是：所述高压负电源(3)电压为7~10千伏。

3.根据权利要求1所述的一种基于等离子体制备石墨烯薄膜的装置，其特征是：所述阴电极(4)、阳电极(6)的材质为金属或石墨。

4.根据权利要求1所述的一种基于等离子体制备石墨烯薄膜的装置，其特征是：所述样品支撑架(5)由石英管(7)中部横截面上的四个凹槽组成，相邻凹槽间隔90o，每个槽深为6毫米。

5.根据权利要求1所述的一种基于等离子体制备石墨烯薄膜的装置，其特征是：所述阴电极(4)与样品支撑架(5)的距离可调。

6.根据权利要求1所述的一种基于等离子体制备石墨烯薄膜的装置，其特征是：所述阳电极(6)与样品支撑架(5)的距离可调。