[发明专利]一种电子级高纯氯化氢高压制备方法有效

专利信息
申请号: 201511004210.9 申请日: 2015-12-28
公开(公告)号: CN105502294B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 李建隆;段继海;仇汝臣 申请(专利权)人: 青岛科技大学
主分类号: C01B7/07 分类号: C01B7/07
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 11241 代理人: 陈磊;黄玉华
地址: 266061 山*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 电子 高纯 氯化氢 高压 制备 方法
【说明书】:

本发明公开了一种电子级高纯氯化氢高压制备方法,包括硫酸干燥工序、低压吸附工序、精馏工序和THC吸附工序,所述低压吸附工序为经硫酸干燥工序处理后的氯化氢气体进入一级压缩,压力为0.5~1.0MPaG,温度为20~40℃;所述精馏工序为经低压吸附工序处理后的氯化氢进入二级压缩、冷凝系统,氯化氢气体经压缩到4.5~5.5MPaG,降温至10~30℃,进入脱氢精馏塔。本发明所述的一种电子级高纯氯化氢高压制备方法,通过加压冷凝、减压制冷,充分回收冷量,降低能耗,从而实现了节能,经济、环保。

技术领域

本发明涉及一种电子级高纯氯化氢高压制备方法,特别涉及一种以氯碱工业合成氯化氢为原料纯化制备电子级高纯氯化氢的工艺方法。

背景技术

氯化氢是工业上一种常见的副产物,是一种价格便宜、很难处理的化学品。现有技术中常采用水吸收法制成盐酸出售或用碱液中和后排放。副产盐酸的污染问题已成为当今化工污染的一大难题。

电子级高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻、钝化、外延、气相抛光、吸杂和洁净处理等工艺的重要材料,也可广泛应用于金属冶炼,光导通讯和科学研究等领域。随着大规模集成电路的发展,对氯化氢纯度的要求越来越高,除了应具有99.999%以上的纯度,还需严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量,以防止硅片加工过程中C的形成。过去我国大多从美、日等国进口电子级高纯氯化氢,但近年来,我国电子工业所需的化学气体的研制,在技术上已有不少突破和发展。国内也有单位已成功开发出相关的电子级氯化氢产品,但还远不能满足市场需求。

中国专利局公开的专利号为“103508419A”的“氯化氢精制工艺”,将粗氯化氢在常温下通过硫酸干燥系统进行干燥,去除水份;再通过三级压缩及冷凝分离系统,进行三次压缩,并且冷凝,液化分离出部分杂质,然后通过精馏系统,塔顶气相采出高纯度的氯化氢。此工艺方法的氯化氢气体经压缩机压缩到0.6~0.8MPaG后采用冷媒进行深度冷凝,冷凝温度为-40度至-35度,需提供大量的冷量,工艺能耗大。本发明采用加压方法提高冷凝效果,降低冷冻级别,并实现节能。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术存在的缺陷和不足,为人们提供一种以氯碱工业合成氯化氢为原料纯化制备电子级高纯氯化氢的方法。

为实现上述目的,本发明采取下述技术方案来实现:一种电子级高纯氯化氢高压制备方法,包括以下步骤:硫酸干燥工序、低压吸附工序、精馏工序和THC(总烃)吸附工序。

所述硫酸干燥工序为:来自氯化氢合成炉原料氯化氢气体进入硫酸干燥塔经硫酸干燥脱除原料氯化氢气体中的大部分水分,从塔顶出来,所述硫酸干燥采用98%wt的硫酸干燥。

所述低压吸附工序为:进入一级压缩机,经低压压缩机进行加压,压力为0.5~1.0MPaG,经换热降温使温度控制在20~40℃;经加压后的氯化氢气体进入水吸附塔脱除氯化氢气体中的微量水分,吸附脱水后的氯化氢气体水分含量小于1ppm,进入低压气体储罐,所述水吸附塔内采用耐酸的吸附剂为3A分子筛。

所述精馏工序为:低压气体储罐的氯化氢气体进入二级压缩机压缩至4.5~5.5MPaG,经二级压缩机加压后的氯化氢气体进入塔前冷凝器,经换热降温使温度控制在10~30℃,此时部分氯化氢气体被冷凝为液相,冷却后的氯化氢气液混合物进入塔前缓冲罐,再进入氯化氢精馏塔进行精馏提纯。塔顶采出低沸点物质如CO2,N2,O2,H2等,塔底采出99.9%的液体氯化氢产品,可经压缩灌装系统装瓶。进入脱轻精馏塔,二氧化碳,氮气,氧气,氢气,一氧化碳等低沸点气体从脱轻精馏塔塔顶排出,形成尾气并回收,脱除后氯化氢液体中二氧化碳含量小于2ppm,氮气含量小于2ppm,氧气含量小于1ppm,一氧化碳含量小于2ppm,塔底氯化氢液体纯度可达到99.9%;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于青岛科技大学,未经青岛科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201511004210.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top