[发明专利]一种高耐热光刻胶组合物及其使用工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂正性光刻胶，以及将该光刻胶用 于光刻的工艺，属于图纹面的照相制版工艺领域。

背景技术

光刻胶是电子工业进行光刻过程的常用功能性材料，光刻胶的化学及物理性质直 接影响光刻胶在大规模集成电路中的使用效果。根据使用工艺的不同，光刻胶分为正性光 刻胶与负性光刻胶两类，其中，正性光刻胶的作用机理是在光刻过程中，光刻胶薄膜上图形 曝光的部分被显影液洗去后，未曝光的部分留下形成图形。与正性光刻胶配合使用的光源 有多种，其中紫外光的活性衰减最小，因而将紫外光照射在正性光刻胶表面时，光线可到达 光刻胶的较深部位，从而使光刻的图案线条均匀、清晰，因此紫外正性光刻胶的使用更为广 泛。

目前，用于制造电子器件的正性光刻胶基本以树脂体系为主。胶膜的耐热温度为 135～140度，当坚膜的温度更高，或者其他更高温度的工艺要求时，就会导致就会导致图形 变形失真。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是光刻胶在较高的烘烤温度条件下，出现图形变形失 真的问题；进而提出一种使用含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外正性光刻胶。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的紫外 正性光刻胶，以重量百分数计，由如下组分组成，

所述重氮类感光剂为通式(1)和(2)化合物中的一种或几种的混合物，

通式(1)

通式(2)

，

上述通式(1)和(2)中，A为硫原子或氧原子，R₁、R₂、R₃和R₄中至多有一个为氢原子， R₆、R₇和R₈中至多有一个为氢原子，R₅为碳原子数1-5的烷基，其余为(I)或(II)结构；

(I)

(1I)

所述酚醛树脂为线性酚醛树脂。

所述线性酚醛树脂为下列通式(3)结构，

通式(3)，

上述通式(3)中，R₉为含有不多于10个碳原子的任意基团，n为自然数。

所述线性酚醛树脂的分子量为2000-30000。

所述表面活性剂为下列通式(4)和(5)化合物中的一种或几种的混合物，

通式(4)

通式(5)

上述通式(4)和(5)中，R₁₀、R₁₁、R₁₂和R₁₃为氢、氨基、甲基、乙基、丙基、甲氧基、乙氧 基、二甲氨基或季铵碱基，k为2-10范围内的整数，m为4-10范围内的整数。

所述黏附促进剂为三嗪类含氮杂环化合物、通式(6)和(7)化合物中一种或几种的 混合物，

通式(6)

通式(7)

，

上述通式(6)和(7)中，R₁₄、R₁₅、R₁₆为氢原子、碳原子数1-5的烷基、氨基或者乙醇 基，R₁₇为碳原子数1-5的烷基或者氨基。

所述三嗪类含氮杂环化合物为以下结构，

其中，R₁₈、R₁₉、R₂₀为碳原子数2-6的烷基、碳原子数2-6的烷氧基或者氨基。

所述溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、环己酮、丙二醇 单甲醚、乙酰丙酮、N-甲基吡咯烷酮、二乙二醇单甲醚和二乙二醇二甲醚中的一种或几种的 混合物。

所述溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯。

在此基础上，还进一步提出了所述紫外正性光刻胶的光刻工艺，包括如下步骤，

(1)将紫外正性光刻胶均匀涂布在基板上，并蒸干光刻胶内的溶剂；