[发明专利]一种高耐热光刻胶组合物及其使用工艺

权利要求书

1.一种含有临羟基苯甲醛线性酚醛树脂的正性光刻胶，以重量百分数计，由如下组分 组成，

重氮类感光剂2-40％

含有临羟基苯甲醛的酚醛树脂8-50％

表面活性剂0-2％

黏附促进剂0-10％

溶剂40-90％；

所述重氮类感光剂为通式(1)和(2)化合物中的一种或几种的混合物，

上述通式(1)和(2)中，A为硫原子或氧原子，R₁、R₂、R₃和R₄中至多有一个为氢原子，R₆、R₇和R₈中至多有一个为氢原子，R₅为碳原子数1-5的烷基，其余为(I)或(II)结构；

2.根据权利要求1所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述酚醛树脂为线性酚醛树 脂。

3.根据权利要求2所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述线性酚醛树脂为下列通式 (3)结构，

上述通式(3)中，R₉为含有不多于10个碳原子的任意基团，n为自然数。

4.根据权利要求2或3所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述线性酚醛树脂的分子 量为2000-30000。

5.根据权利要求1-4任一所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述表面活性剂为下列 通式(4)和(5)化合物中的一种或几种的混合物，

上述通式(4)和(5)中，R₁₀、R₁₁、R₁₂和R₁₃为氢、氨基、甲基、乙基、丙基、甲氧基、乙氧基、二 甲氨基或季铵碱基，k为2-10范围内的整数，m为4-10范围内的整数。

6.根据权利要求1-5任一所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述黏附促进剂为三嗪 类含氮杂环化合物、通式(6)和(7)化合物中一种或几种的混合物，

上述通式(6)和(7)中，R₁₄、R₁₅、R₁₆为氢原子、碳原子数1-5的烷基、氨基或者乙醇基，R₁₇为碳原子数1-5的烷基或者氨基。

7.根据权利要求6所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述三嗪类含氮杂环化合物为 以下结构，

其中，R₁₈、R₁₉、R₂₀为碳原子数2-6的烷基、碳原子数2-6的烷氧基或者氨基。

8.根据权利要求1-7任一所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述溶剂为丙二醇单甲 醚乙酸酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、环己酮、丙二醇单甲醚、乙酰丙酮、N-甲基吡咯烷 酮、二乙二醇单甲醚和二乙二醇二甲醚中的一种或几种的混合物。

9.根据权利要求8所述的紫外正性光刻胶，其特征在于，所述溶剂为丙二醇单甲醚乙酸 酯。

10.权利要求1所述紫外正性光刻胶的光刻工艺，包括如下步骤，

(1)将紫外正性光刻胶均匀涂布在基板上，并蒸干光刻胶内的溶剂；

(2)对基板表面进行曝光，曝光后用四甲基氢氧化铵、NaOH或KOH溶液显影；

(3)将显影后的所述基板烘干后进行刻蚀；

(4)用去胶液去除所述基板上残留的光刻胶即可。