[发明专利]高效铜蚀刻剂在审
| 申请号： | 201510990431.1 | 申请日： | 2015-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN105624680A | 公开（公告）日： | 2016-06-01 |
| 发明（设计）人： | 王国祥 | 申请（专利权）人： | 苏州博洋化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/34 | 分类号： | C23F1/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高效 蚀刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种高效铜蚀刻剂，其特征在于：包含以铁计为0.3-4wt％的三价铁 盐、以氮计为0.2-3wt％的铵盐、6-15wt％的有机碱和余量的去离子水。
2.根据权利要求1所述的高效铜蚀刻剂，其特征在于：所述三价铁盐 选自硫酸铁、氯化铁、溴化铁、硝酸铁中的一种。
3.根据权利要求1所述的高效铜蚀刻剂，其特征在于：所述铵盐选自 硫酸铵、硫酸氢铵、碳酸铵、碳酸氢铵、硝酸铵、氯化铵、溴化铵、羧酸 铵中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的高效铜蚀刻剂，其特征在于：所述有机碱选 自胺类化合物、咪唑类化合物、吡唑类化合物、碱金属醇盐、碱金属羧酸 盐中的一种或多种。
5.根据权利要求4所述的高效铜蚀刻剂，其特征在于：所述碱金属醇 盐由钠或钾与C1-C3的一元醇或多元醇生成。
6.根据权利要求4所述的高效铜蚀刻剂，其特征在于：所述碱金属羧 酸盐由钠或钾与C1-C4的一元羧酸或多元羧酸生成。
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