[发明专利]一种IGBT芯片与直接覆铜基板的快速烧结连接方法及装置有效
| 申请号: | 201510915451.2 | 申请日: | 2015-12-09 |
| 公开(公告)号: | CN105489507B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
| 发明(设计)人: | 梅云辉;封双涛;陆国权;李欣 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
| 主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60;H01L21/603;B23K11/00 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 王丽 |
| 地址: | 300072 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 快速烧结 直流脉冲电流 直接覆铜基板 基板 压柱 接头力学性能 服役可靠性 中间连接层 晶粒 螺栓 工艺过程 加热设备 加热原理 加压螺纹 紧固螺栓 烧结纳米 施压装置 烧结 纳米银 总能量 预热 粗化 焊膏 施压 加热 行进 开发 | ||
本发明开发了一种IGBT芯片与直接覆铜基板的快速烧结连接方法及装置;以纳米银焊膏为中间连接层,利用直流脉冲电流加热原理实现IGBT芯片与DBC基板的快速烧结连接。将施压装置通过紧固螺栓固定在直流脉冲电流加热设备的基座上,然后将预热好的试样放置在压柱正下方,通过螺栓在加压螺纹孔中向下行进,对其下方的压柱施压,利用直流脉冲电流加热实现IGBT芯片与DBC基板的快速烧结连接。本发明工艺过程具有速度快,效率高,总能量输入小,且成本低的优点。有效阻止烧结接头中银颗粒/晶粒尺寸的过度长大及粗化,有益于烧结纳米银接头力学性能和长期服役可靠性的提高。
技术领域
本发明涉及一种绝缘栅双极性晶体管(IGBT)芯片与直接覆铜(DBC)基板的快速烧结连接方法,具体地说,涉及IGBT芯片与DBC基板以纳米银焊膏为中间层的快速(传统热压烧结需要时间大于1h,而本工艺可以在3min以内实现烧结)烧结连接方法,属于材料加工领域创新型技术。特别是一种IGBT芯片与DBC基板的快速烧结连接方法及装置。
背景技术
纳米银焊膏作为一种新型的绿色无铅封装材料,其熔点高(961℃)、导电、导热性能优,可低温烧结互连(不高于250℃)。纳米银焊膏已逐步取代焊料合金和和导电银胶,成为未来半导体器件的首选高温电子封装互连材料但是IGBT芯片与DBC基板的连接工艺主要是采用热压工艺,但是由于传统热压烧结实现纳米银焊膏的烧结连接工艺比较复杂,包括烧结前需要10~20min的预热阶段,之后需要随炉缓冷,然后在加热至烧结温度并保温30~60min以实现纳米银焊膏的烧结,所以完成烧结所需时间较长(>1h),效率较低,自动化生产装备要求高,并且长时间的高温状态下,烧结银接头的颗粒尺寸明显粗化,这不利于烧结接头的力学性能和可靠性。为简化烧结工艺,提高烧结效率。
本发明以直流脉冲电流辅助烧结机理为基础,以纳米银焊膏为中间层,创造性的利用电流加热原理实现了IGBT芯片与DBC基板的快速连接。烧结时间的缩短,不仅有利于效率的提高,也有助于抑制银颗粒在高温时段长时间的增长,使晶粒尺寸较热压工艺明显减小,有利于烧结接头的力学性能和稳定性,即获得高可靠性的烧结接接头。这能够很好地满足市场对以IGBT芯片为代表的功率半导体器件的快速封装及生产的需求。
发明内容
本发明主要解决IGBT芯片与DBC基板烧结连接时存在技术复杂且效率低的问题,提供了一种操作简单,工艺时间短,且接头导电、导热性能优异,强度可靠的IGBT芯片与DBC基板快速烧结连接方法。
本发明方法通过以下技术方案实现。
一种绝缘栅双极性晶体管(IGBT)芯片与直接覆铜(DBC)基板的快速烧结连接方法;以纳米银焊膏为中间连接层,利用直流脉冲电流加热原理实现IGBT芯片与DBC基板的快速烧结连接。
IGBT芯片与直接覆铜基板的快速烧结连接方法步骤如下:
(1)对DBC基板进行清洗预处理,通过物理震荡的方法去除基板表面的油污;
(2)在DBC基板待连接区域表面丝网印刷上一层50μm~90μm的纳米银焊膏,然后置于90℃环境中预热20min;
(3)将施压装置通过紧固螺栓固定在直流脉冲电流加热设备的基座上,然后将预热好的试样放置在压柱正下方,通过螺栓在加压螺纹孔中向下行进,对其下方的压柱施压,利用直流脉冲电流加热实现IGBT芯片与DBC基板的快速烧结连接。
压柱施压优选0.5MPa~2MPa。直流脉冲电流优选为1.0kA~2.0kA,电流导通时间优选为90s~180s。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





