[发明专利]一种提高喷嘴喷注均匀性的装置在审
| 申请号： | 201510850037.8 | 申请日： | 2015-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN105508111A | 公开（公告）日： | 2016-04-20 |
| 发明（设计）人： | 王仙;丁兆波;张晋博;赵世红;许晓勇;田原;刘红珍;姬威信;潘刚;于槟恺;王召;刘中祥;陶瑞峰;郑孟伟 | 申请（专利权）人： | 北京航天动力研究所 |
| 主分类号： | F02M61/18 | 分类号： | F02M61/18 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 莫丹 |
| 地址： | 100076 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 喷嘴 均匀 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高喷嘴喷注均匀性的装置，其特征在于：该装置包括相连接的氧 化剂喷嘴(1)和燃料喷嘴(2)，氧化剂喷嘴(1)和燃料喷嘴(2)构成一个双 组元喷注单元；其中，氧化剂喷嘴(1)的入口处内嵌氧化剂喷嘴入口节流孔(5)， 氧化剂喷嘴(1)的出口设置于燃料喷嘴(2)的内部；
所述的燃料喷嘴(2)径向设置若干排径向进口孔(7)，燃料喷嘴(2)轴 向也设置若干排小孔，燃料喷嘴(2)的下端设置环形凹腔(8)；
工作时氧化剂从氧化剂喷嘴(1)的入口进入氧化剂喷嘴入口节流孔(5)， 燃料从燃料喷嘴(2)的径向进口孔(7)进入后经过初次均流，经过环形凹腔 (8)进行二次均流，最终从燃料喷嘴出口(9)处喷出，可以获得沿周向高度 均匀的分布。
2.根据权利要求1所述的一种提高喷嘴喷注均匀性的装置，其特征在于： 所述的燃料喷嘴(2)外壁与燃烧室侧隔墙(3)通过燃料喷嘴出口固定螺母(6) 连接。
3.根据权利要求1所述的一种提高喷嘴喷注均匀性的装置，其特征在于： 所述的氧化剂喷嘴(1)和燃料喷嘴(2)之间通过钎焊连接。
4.根据权利要求1所述的一种提高喷嘴喷注均匀性的装置，其特征在于： 所述的氧化剂喷嘴(1)和氧化剂腔/燃料腔隔墙(4)之间通过钎焊连接。
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