[发明专利]真空处理方法及真空处理装置

权利要求书

1.一种真空处理方法，所述真空处理方法从可开闭的工件的搬入口将工件 依次搬入真空容器内，沿设定为真空状态的所述真空容器内的工件的搬送通路 搬送工件后，从可开闭的工件的搬出口将工件依次搬出到所述真空容器外，其 特征在于，

当所述真空容器内的设置有所述搬送通路的搬送通路室以及与所述搬送通 路室连通且设置在所述真空容器内的工件的待避室在所述搬入口和搬出口敞开 前设定为真空状态时，使所述搬送通路上的工件移动到所述待避室内并将待避 室的出入口封闭成气密状态，在从敞开的所述搬入口和所述搬出口执行工件的 搬出搬入后，封闭所述搬入口和搬出口并在所述搬送通路室设定为真空状态时， 敞开所述待避室的出入口并将所述待避室内的工件返回到所述搬送通路上。

2.一种真空处理装置，其特征在于，包括：

真空容器，所述真空容器设置有搬送通路室和工件的待避室，所述搬送通 路室具有在一端可开闭的工件的搬入口、在另一端可开闭的工件的搬出口以及 在所述搬入口与所述搬出口之间的工件的搬送通路，所述工件的待避室在所述 搬送通路室的上方与搬送通路室连通；

真空排气机构，所述真空排气机构能够将所述真空容器切换设定为真空状 态和大气压状态；

工件搬送机构，所述工件搬送机构将从所述搬入口搬入所述真空容器的搬 送通路室内的工件沿所述搬送通路搬送到所述搬出口；和

升降台，所述升降台配置在所述搬送通路室内的搬送通路上并且在所述搬 送通路室与所述待避室之间进行升降操作，

所述升降台在其上面具有能够封闭所述待避室的出入口的工件支撑面，在 所述工件支撑面上设置有构成所述搬送通路的一部分的引导机构，同时在所述 升降台与待避室的出入口之间设置有通过升降台将待避室的出入口封闭成气密 状态的密封机构。