[发明专利]具有耐久和无锈蚀的多层陶瓷涂层的普通铜餐具和金属制品以及制备方法在审
| 申请号: | 201510744614.5 | 申请日: | 2010-03-25 |
| 公开(公告)号: | CN105296919A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
| 发明(设计)人: | M·M·H·葛 | 申请(专利权)人: | 国有物资有限合伙公司 |
| 主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/06;C23C28/00;A47J36/02 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李跃龙 |
| 地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 耐久 锈蚀 多层 陶瓷 涂层 普通 餐具 金属制品 以及 制备 方法 | ||
1.一种具有多层的、抗粘性、无锈蚀的陶瓷涂层的金属餐具制品,包括:
金属基材;
沉积在金属基材第一表面的基底涂层,其包含通过同时操作的阴极弧工艺和溅射工艺沉积的混合连接层,该层包含选自金属、金属合金或它们的组合的材料;和
邻近基底涂层沉积的陶瓷涂层,陶瓷涂层包含PVD氮化物或碳氮化物层。
2.权利要求1的金属餐具制品,其中金属基材是普通铜。
3.权利要求1的金属餐具制品,其中金属基材由选自铝、包覆铝、钢、铸铁、不锈钢、包覆铜、包覆不锈钢或它们的合金的材料制成。
4.权利要求1-3任一项的金属餐具制品,还包括沉积在通过同时操作的阴极弧工艺和溅射工艺沉积的混合连接层与陶瓷涂层之间的至少一个附加层,该附加层选自溅射层、阴极弧层或通过同时操作的阴极弧工艺和溅射工艺沉积的混合连接层,该附加层包含选自金属、合金或它们的组合的材料。
5.权利要求1-4任一项的金属餐具制品,其中通过同时操作的阴极弧工艺和溅射工艺沉积的混合连接层由选自钛、铬、锆、铌、铪、不锈钢或它们的合金的材料制成。
6.权利要求1-5任一项的金属餐具制品,其中PVD氮化物或碳氮化物层选自原子第4、5或6族、Al或B的至少一种元素的氮化物或碳氮化物。
7.权利要求1-6任一项的金属餐具制品,其中PVD氮化物或碳氮化物层包括(Al,Cr)N、(Al,Cr)CN或(Al,Cr,X)N或(Al,Cr,X)CN,其中X选自Ti、Zr、Nb、V、Mo或B。
8.权利要求1-7任一项的金属餐具制品,其中PVD氮化物或碳氮化物层包括(Ti,Al,Cr)N或(Ti,Al,Cr)CN。
9.权利要求1-8任一项的金属餐具制品,还包括邻近PVD氮化物或碳氮化物层沉积的至少一个附加层,该至少一个附加层选自CrN和(Ti,Al)N,或CrCN和(Ti,Al)CN,或(Ti,Al,Cr)N和CrN,或(Ti,Al,Cr)CN和CrCN的交替层。
10.权利要求1-9任一项的金属餐具制品,其中基底涂层的厚度范围为0.2-20微米,陶瓷涂层的厚度范围为1.0-20微米。
11.权利要求1-10任一项的金属餐具制品,其中在沉积基底涂层之前基材具有低于0.508微米的表面光洁度。
12.权利要求1-11任一项的金属餐具制品,其中在通过同时操作的阴极弧工艺和溅射工艺沉积的连接层中,源于一个或多个阴极弧靶的总沉积为源于一个或多个阴极弧靶和一个或多个溅射靶的组合的总沉积的5%-40%。
13.权利要求1-12任一项的金属餐具制品,其中PVD氮化物或碳氮化物层是生物相容的。
14.权利要求1-13任一项的金属餐具制品,其中PVD氮化物或碳氮化物由选自溅射、反应溅射、磁控溅射或阴极弧工艺的物理气相沉积方法沉积。
15.一种具有多层的、抗粘性、无锈蚀的涂层的金属餐具制品的制备方法,该方法包括:
提供金属基材;
在金属基材的第一表面沉积基底涂层,其包括使用同时操作的阴极弧工艺和溅射工艺来沉积混合连接层,其中混合连接层由选自金属、合金或它们的组合的材料组成;并且
邻近基底涂层沉积陶瓷涂层,包括使用PVD工艺沉积氮化物或碳氮化物层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国有物资有限合伙公司,未经国有物资有限合伙公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510744614.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:拼版蒸镀掩模
- 下一篇:一种航空发动机磨损拉紧管的喷涂修复方法
- 同类专利
- 专利分类





