[发明专利]一种清洗设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示器制造领域，尤其涉及一种清洗设备。

背景技术

在显示器的制造过程中，以TFT-LCD(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，薄膜晶体管液晶显示器)为例，清洗设备需要对进行光刻技术前的基板(即涂覆光刻胶之前的基板)进行清洗，以及在形成取向膜之前也需要对基板进行清洗，以去除基板表面的杂质。此外，在对显示器的不良解析过程中也会对液晶、取向膜等进行清洗。

如图1所示，目前的清洗设备1包括清洗腔室10以及与清洗腔室相连的排废液管路20和新液补充管路30。其中，新液补充管路30用于为清洗腔室10补入清洗液，当清洗液达不到清洗要求时，排废液管路20用于排除清洗腔室10中的清洗液。

其中，清洗腔室10中的清洗液在达不到清洁要求时只能作废液处理，存在清洗液浪费的问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种清洗设备，可改善清洗液浪费的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

提供一种清洗设备，包括清洗腔室、新液补充管路、排废液管路，还包括存储箱、循环管路和过滤装置；所述存储箱用于存储清洗液；所述循环管路包括第一循环管路和第二循环管路，所述第一循环管路用于使所述存储箱中的清洗液进入所述清洗腔室，所述第二循环管路用于使所述清洗腔室中的清洗液进入所述存储箱；所述过滤装置用于对经第二循环管路进入存储箱的清洗液进行过滤。

优选的，所述清洗腔室内设置有基板支撑装置；所述基板支撑装置包括支撑面，所述支撑面上设置有多个支撑针。

进一步优选的，所述基板支撑装置还包括底面，所述支撑面与所述底面呈锐角夹角；在所述支撑面的靠近所述底面处设置挡板，所述挡板用于固定待清洗基板。

优选的，所述新液补充管路与所述存储箱相连；所述存储箱包括至少两个子存储箱，所述新液补充管路用于为每个子存储箱补入清洗液；所述第一循环管路用于使任一个子存储箱中的清洗液进入所述清洗腔室，所述第二循环管路用于使所述清洗腔室中的清洗液进入任一个子存储箱。

进一步优选的，所述存储箱包括出液通道，所述出液通道与每个子存储箱之间设置阀门；所述第一循环管路与所述出液通道相连。

进一步的，所述排废液管路与所述出液通道相连。

优选的，相邻子存储箱之间设置阀门；所述第一循环管路与任一个子存储箱相连。

进一步的，所述排废液管路和所述第一循环管路与同一个子存储箱相连。

优选的，所述存储箱还包括入液通道，所述入液通道与每个子存储箱之间设置阀门；所述第二循环管路与所述入液通道相连。

进一步优选的，所述新液补充管路与所述入液通道相连。

进一步的，所述入液通道分成多个间隔段，任一个间隔段对应一个子存储箱；在相邻间隔段之间设置阀门。

本发明实施例提供一种清洗设备，在清洗腔室中完成清洗后，通过第二循环管路可以将清洗液重新收集到存储箱中，与此同时，可通过过滤装置对经第二循环管路进入存储箱中的清洗液进行过滤，以便重新收集在存储箱中的清洗液还可用于下一次清洗。由于在每次清洗完成后都经过了过滤处理，可以提高清洗液的清洁度，从而延长了清洗液的使用寿命，改善清洗液浪费的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术提供的一种清洗设备的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图一；

图3为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图二；

图4为本发明实施例提供的一种支撑装置的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种存储箱的结构示意图一；

图6为本发明实施例提供的一种存储箱的结构示意图二；

图7为本发明实施例提供的一种存储箱的结构示意图三；

图8为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图三；

图9为本发明实施例提供的一种清洗设备的结构示意图四。

附图标记；