[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201510622293.1 | 申请日： | 2015-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN105463385B | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 川又由雄 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 张洋;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川县横*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种等离子体处理装置，通过等离子体对于工件施加处理，其特征在于包括：
筒形电极，在一端设有开口部，且内部被导入工艺气体；
电源，对所述筒形电极施加电压；
搬送部，搬送所述工件使其通过所述开口部的正下方；以及
磁性构件，在所述开口部的附近，形成包含与所述工件的搬送方向平行的磁力线的磁场，
所述磁场形成在：由所述搬送部搬送的所述工件通过所述筒形电极的所述开口部的正下方的位置。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述磁性构件是一对磁铁，设于所述开口部的正下方的所述工件的通过位置的下方，且彼此的极性不同的部分相向，在所述一对磁铁之间形成磁场，所述磁场包含跨越通过所述通过位置的所述工件的磁力线。
3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述搬送部是在上表面保持所述工件并被旋转驱动的旋转台，
所述磁性构件设于所述旋转台的下方，且产生与旋转台的旋转方向平行的磁力线。
4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：所述磁性构件是一对磁铁，配置于所述筒形电极的侧面的附近，且彼此的极性不同的部分相向。
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