[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置在审

专利信息
申请号: 201510591070.3 申请日: 2015-09-16
公开(公告)号: CN105068327A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 王美旭;吴松;代超;李建辉 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;G02F1/13;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李相雨
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的测试垫和取向膜,其特征在于,所述测试垫的表面设置有沟槽,且所述沟槽的延伸方向与所述取向膜的摩擦取向方向一致。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述测试垫包括设置在所述衬底基板上的第一导电层、绝缘层和第二导电层,所述第二导电层通过所述绝缘层上的过孔与所述第一导电层电连接。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一导电层包括多条相互平行的条状金属,所述绝缘层与所述第二导电层厚度均匀从而在所述测试垫的表面形成所述沟槽。

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域,所述阵列基板的显示区域包括设置在所述衬底基板上的栅线、第一保护层、像素电极,所述第一导电层与所述栅线为相同材料并同层设置,所述绝缘层与所述第一保护层为相同材料并同层设置,所述第二导电层与所述像素电极为相同材料并同层设置。

5.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域,所述阵列基板的显示区域包括设置在所述衬底基板上的数据线、第二保护层、像素电极,所述第一导电层与所述数据线为相同材料并同层设置,所述绝缘层与所述第二保护层为相同材料并同层设置,所述第二导电层与所述像素电极为相同材料并同层设置。

6.根据权利要求1-5任一所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底基板上还设置有短路布线,所述测试垫与所述短路布线相连。

7.一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-6任一所述的阵列基板。

8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求7所述的显示面板。

9.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:

在衬底基板上形成测试垫,所述测试垫的表面形成有沟槽;

在所述衬底基板上形成取向膜,所述取向膜的摩擦取向方向与所述沟槽的延伸方向一致。

10.根据权利要求9所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述在衬底基板上形成测试垫包括:

在所述衬底基板上形成第一导电层,所述第一导电层包括多条相互平行的条状金属;

在所述第一导电层上形成厚度均匀的绝缘层和厚度均匀的第二导电层,所述第二导电层通过所述绝缘层上的过孔与所述第一导电层电连接。

11.根据权利要求10所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域,所述阵列基板的显示区域包括形成在所述衬底基板上的栅线、第一保护层、像素电极,所述第一导电层与所述栅线在一次构图工艺中同时形成,所述绝缘层与所述第一保护层在一次构图工艺中同时形成,所述第二导电层与所述像素电极在一次构图工艺中同时形成。

12.根据权利要求10所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述测试垫形成在所述阵列基板的非显示区域,所述阵列基板的显示区域包括形成在所述衬底基板上的数据线、第二保护层、像素电极,所述第一导电层与所述数据线在一次构图工艺中同时形成,所述绝缘层与所述第二保护层在一次构图工艺中同时形成,所述第二导电层与所述像素电极在一次构图工艺中同时形成。

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