[发明专利]一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 201510517319.6 申请日: 2015-08-21
公开(公告)号: CN105206643A 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 陈亚文;付东 申请(专利权)人: TCL集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 516006 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 像素 界定 结构 及其 制作方法 显示 面板 显示装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置。

背景技术

采用溶液加工制作OLED以及QLED显示器,由于其低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点,是未来显示技术发展的重要方向。其中,印刷技术被认为是实现OLED以及QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。

在印刷工艺中,由于受设备精度以及液滴尺寸的影响,对于传统的RGBStripe(RGB条状)排列的像素结构,很难实现高分辨率显示器件的制备。当显示器件的分辨率达到200ppi时,各子像素的宽度会减小到42μm,同时由于像素界定层的存在,子像素的真实宽度会进一步减小到35μm左右,而对于10pL体积的墨水,其直径就达27μm。如果再进一步提高分辨率,子像素尺寸会进一步减小,所以就很难控制各子像素内墨水相互独立而不溢出像素。

中国专利(CN104009066A)中公开了一种像素排布结构,通过将相连像素的子像素共用Mask(掩膜)上的开口,从而有效提高显示器件的分辨率。但是,在印刷工艺中,单纯的引入这种像素排布结构,随着分辨率的增大,各子像素内的墨水还是会因像素尺寸变小而溢出像素坑,与相邻不同颜色的子像素发生颜色串扰,引起显示器件显示效果下降,因此在印刷工艺中直接应用这种结构,还是无法减小子像素的尺寸同时保持不同颜色子像素间沉积墨水的相互独立,因此这种像素结构无法实现高分辨率显示器的印刷工艺的制作。

在印刷工艺制备OLED的显示屏的工艺中,中国专利(CN104393192A,CN104409653A)公布了一种像素结构设计,即各子像素采用双层像素界定层,第一层为亲水薄膜,第二层为疏水薄膜,从而实现墨水在像素电极附近的良好铺展与成膜,同时由于像素的第二界定层的疏水性,墨水在像素上形成较大接触角,从而防止墨水溢出,有效实现OLED显示屏的印刷工艺制备。但这种像素结构同样无法避免因显示器件分辨率增大引起像素面积减小,进而导致墨水因体积过大溢出像素坑,最终造成显示器件像素颜色串扰的问题。

因此,现有技术还有待于改进和发展。

发明内容

鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种像素界定层结构及其制作方法、显示面板及显示装置,旨在解决现有技术中因显示器件分辨率增大而引起像素面积减小、进而导致墨水溢出像素坑造成颜色串扰的问题。

本发明的技术方案如下:

一种像素界定层结构,其中,包括第一像素界定层和位于第一像素界定层上的第二像素界定层,所述第一像素界定层具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个第一开口,所述第二像素界定层具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口。

所述的像素界定层结构,其中,所述第一像素界定层的厚度为50~500nm。

所述的像素界定层结构,其中,所述第二像素界定层的厚度为1000~5000nm。

所述的像素界定层结构,其中,所述第一像素界定层为亲水性薄膜层,所述第二像素界定层为疏水性薄膜层。

所述的像素界定层结构,其中,所述亲水性薄膜层为负性光阻薄膜,所述疏水性薄膜层为正性光阻薄膜。

一种显示面板,其中,其包括形成在阵列基板上的如上所述的像素界定层结构。

所述的显示面板,其中,所述阵列基板上的像素结构包括三种颜色的子像素构成的多个像素单元;每一像素单元由三种子像素成品字型排列形成正方形结构。

所述的显示面板,其中,所述子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。

一种显示装置,其中,包括如上所述的显示面板。

一种像素界定层结构的制备方法,其中,包括步骤:

在阵列基板上形成一层亲水性薄膜层,并对其进行曝光显影形成具有与各个子像素的发光区域一一对应的多个第一开口的第一像素界定层;

在形成有第一像素界定层的阵列基板上形成一层疏水性薄膜层,并对其进行曝光显影形成具有为相同颜色子像素连成一片的区域共用的多个第二开口的第二像素界定层。

有益效果:通过本发明中的像素界定层结构,将同种颜色的多个子像素结合在一起同时印刷,从而成倍的增大了墨水的沉积区域。因此本发明可以有效减小各子像素的尺寸同时保证墨水不会因子像素面积过小而发生溢出,最终实现印刷型高分辨率显示器件的制备。

附图说明

图1为本发明的像素界定结构的较佳实施例的结构示意图。

图2为本发明的像素界定层结构的制作方法较佳实施例的流程图。

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