[发明专利]一种异质结太阳电池电镀铜电极的制备方法在审
| 申请号: | 201510496603.X | 申请日: | 2015-08-13 |
| 公开(公告)号: | CN105140308A | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
| 发明(设计)人: | 舒欣 | 申请(专利权)人: | 常州天合光能有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/074;H01L31/20 |
| 代理公司: | 浙江永鼎律师事务所 33233 | 代理人: | 郭小丽 |
| 地址: | 213031 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 异质结 太阳电池 镀铜 电极 制备 方法 | ||
1.一种异质结电池电镀铜电极的制备方法,包括如下步骤:
A.绝缘减反射膜沉积:硅片经制绒清洗、非晶硅沉积、TCO薄膜沉积后,在TCO薄膜表面沉积一层绝缘减反射膜;调节该减反射膜厚度与工艺参数,使其与TCO薄膜的折射率和电学性能匹配,形成双减反射层结构;
B.激光刻画:以绝缘减反射膜为掩膜层,利用激光烧灼掉所设计电极图形处的绝缘减反射膜,清洗后露出下方的TCO薄膜,即电镀铜附着位置;
C.电镀:通过电镀在目标图形处制备铜电极;
D.后续工艺:电镀完成后,不需腐蚀掉绝缘减反射膜的掩膜层,即可进行异质结电池的下一步工艺步骤。
2.根据权利要求1所述的异质结电池电镀铜电极的制备方法,其特征在于:在步骤A中,采用PECVD、PVD或RPD方式在TCO薄膜上沉积绝缘减反射膜,绝缘减反射膜为SiNx、SiOx、MgF、Al2O3、Si3N4或ZnS,绝缘减反射膜与TCO薄膜形成双减反射层结构,增强减反射膜的陷光效果。
3.根据权利要求1所述的异质结电池电镀铜电极的制备方法,其特征在于:在步骤A中,TCO薄膜沉积中采用透明导电材料作为阻挡层。
4.根据权利要求3所述的异质结电池电镀铜电极的制备方法,其特征在于:所述透明导电材料为In2O3、ITO、IWO、ITiO、AZO、GZO或FTO。
5.根据权利要求1所述的异质结电池电镀铜电极的制备方法,其特征在于:在步骤A中,所述绝缘减反射膜的厚度为0.01-10um。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





