[发明专利]线偏振非平面光波在硫族化物金属多层核-壳体表面产生可调谐非梯度光学力的方法有效
| 申请号: | 201510431037.4 | 申请日: | 2015-07-21 |
| 公开(公告)号: | CN105137585B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
| 发明(设计)人: | 曹暾 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
| 主分类号: | G02B21/32 | 分类号: | G02B21/32;G21K1/00 |
| 代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 梅洪玉 |
| 地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 偏振 平面 光波 硫族化物 金属 多层 壳体 表面 产生 调谐 梯度 学力 方法 | ||
1.一种线偏振非平面光波在硫族化物金属多层核-壳体表面产生可调谐非梯度光学力的方法,其特征在于,在线偏振非平面光波照射下,通过使硫族化物/金属多层核-壳体偏离入射光轴(z轴)中心,破坏硫族化物/金属多层核-壳体周围的玻印亭矢量对称分布,使多层核-壳体上的总玻印亭矢量不为零,产生非梯度光学力;且该总玻印亭矢量随硫族化物的晶格结构的变化发生改变,进而改变总玻印亭矢量作用在多层核-壳体上的非梯度光学力的方向和大小,来调控多层核-壳体在入射光场中的运动轨迹,从而对附着在多层核-壳体表面的纳米尺寸分子进行可调谐捕获和筛选,其中多层核-壳体处于入射光束内,且偏离光束沿入射方向的中心对称轴(z轴)的距离为l,0<l≤w(z);w(z)为入射光束宽,随z的变化发生改变,-∞<z<+∞;多层核-壳体由金属层、硫族化物层交替生长而成,层数为n层,n>1,每层厚度在1纳米至1微米;多层核-壳体的外形是曲面几何体或者多面体,体积在1立方纳米至1000立方微米;多层核-壳体中核与壳的中心重叠或分离。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,入射光为线偏振非平面波,类型包括高斯波、贝塞尔波、艾里波;入射光垂直照射硫族化物/金属多层核-壳体;频率范围为0.3μm~20μm;功率范围为0.1mW/μm2~10mW/μm2。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,入射光的光源采用波长可调谐激光器、半导体连续或准连续激光或者发光二极管。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,表面附有纳米尺寸分子的硫族化物/金属多层核-壳体,金属层是Al、Ag、Au、Cu、Ni、Pt。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,表面附有纳米尺寸分子的硫族化物/金属多层核-壳体,硫族化物层是GeTe,Ge2Sb2Te5,Ge1Sb2Te4,Ge2Sb2Te4,Ge3Sb4Te8,Ge15Sb85,Ag5In6Sb59Te30。
6.根据权利要求1或2或4或5所述的方法,其特征在于,表面附有纳米尺寸分子的硫族化物/金属多层核-壳体,纳米尺寸分子具有非手性结构或手性结构。
7.根据权利要求1或2或4或5所述的方法,其特征在于,表面附有纳米尺寸分子的硫族化物/金属多层核-壳体,多层结构通过材料生长工艺实现,包括磁控溅射、电子束蒸发、金属有机化合物化学气相沉淀、气相外延生长、分子束外延。
8.根据权利要求1或2或4或5所述的方法,其特征在于,表面附有纳米尺寸分子的硫族化物/金属多层核-壳体,通过光照、通电、加热和加压等方式改变其中硫族化物的晶格结构。
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