[发明专利]硫系玻璃透镜的高精度加工方法

权利要求书

1.一种硫系玻璃透镜的高精度加工方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、对硫系玻璃球面透镜进行粗磨成形；

B、采用金属磨具对经步骤A处理后的硫系玻璃球面透镜进行精磨；

C、采用硬质玻璃磨具对镜步骤B处理后的硫系玻璃球面透镜进行超精磨；

D、对经步骤C处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行一道粗抛光；

E、对经步骤D处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行二道粗抛光；

F、对经步骤E处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行一道精抛光；

G、对经步骤F处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行二道精抛光；

D’、对经步骤C处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行一道粗抛光；

E’、对经步骤D处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行二道粗抛光；

F’、对经步骤E处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行一道精抛光；

G’、对经步骤F处理后的硫系玻璃球面透镜的半径小的一面进行二道精抛光；

其中，步骤D～G四个步骤所采用的抛光剂的粒度尺寸依次递减，且在步骤G中还采用硬度小于预设阈值的抛光胶进行抛光,步骤D’～G’四个步骤所采用的抛光剂的粒度尺寸依次递减，且在步骤G’中还采用硬度小于预设阈值的抛光胶做抛光膜层。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤D和步骤D’中采用的抛光剂为粒度W2.5的白刚玉溶液，抛光时间分别为60min～80分钟，去处余量0.08mm～0.10mm。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤E和步骤E’中采用的抛光剂为粒度W1的白刚玉抛光粉配置的溶液，抛光时间分别为40min～60分钟，去处余量0.05mm～0.08mm。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤F和步骤F’中采用的抛光剂为粒度W0.5的金刚石微粉溶液，抛光时间为30～60分钟，去处余量0.03mm。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，步骤G和步骤G’中采用的抛光剂为粒度W0.25的金刚石微粉溶液，采用的抛光胶为60#抛光胶，抛光时间为30～60分钟，去处余量0.01～0.02mm。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤A中采用45#钢基体模具进行粗磨成形。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤B中，采用黄铜基体的球面模具精磨，金刚砂粒度为W40，去处余量0.3mm，并控制零件的边缘厚度差Δt小于0.01mm～0.05mm。

8.如权利要求1～7中任一项所述的方法，其特征在于，步骤C中，采用硬质玻璃球面磨具进行超精磨，金刚砂粒度为W20，去处余量0.2mm。