[发明专利]一种仿洞石抛釉砖的生产方法有效

专利信息
申请号: 201510354865.2 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN105036815B 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 丘云灵;金国庭;周燕 申请(专利权)人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;丰城市东鹏陶瓷有限公司
主分类号: C04B41/89 分类号: C04B41/89;C04B41/86
代理公司: 佛山市禾才知识产权代理有限公司44379 代理人: 梁永健
地址: 528031 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 仿洞石抛釉砖 生产 方法
【权利要求书】:

1.一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:包括以下步骤:

A、在成型干燥后的砖坯表面布施底釉,然后进行印花;

B、布施低温釉:在步骤A印花后的砖坯上布施低温釉;

C、布施透明釉:对步骤B获得的砖坯布施透明釉;

D、烧制抛光,获得成品;

步骤B中所述低温釉的釉料包括以下组分:30-40%SiO2、55-65%PbO、3-8%Al2O3、1-3%(Na2O,K2O)和0.2-1%MgO;

所述低温釉的软化点低于850℃。

2.根据权利要求1所述的一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:所述低温釉的布施方法为丝网印制或喷墨喷釉中的一种或多种组合。

3.根据权利要求1所述的一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:步骤B中低温釉对应印刷于步骤A的印花层的印花上。

4.根据权利要求1所述的一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:步骤A通过定位喷墨或丝网印刷中的一种或多种组合的方式进行印花。

5.根据权利要求1所述的一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:步骤A的印花图案由两种或两种以上图案的拼组设计而成。

6.根据权利要求5所述的一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:步骤B中低温釉对应印刷于步骤A的印花图案中的一种或两种图案上。

7.根据权利要求1所述的一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:步骤B中低温釉随机印刷于步骤A的印花层的印花上。

8.根据权利要求1所述的一种仿洞石抛釉砖的生产方法,其特征在于:步骤C获得的砖坯结构自下而上包括底料层、底釉层、印花层和透明釉层,所述印花层和所述透明釉层之间还设置低温釉层。

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