[发明专利]激光微束背部辐照芯片试验的聚焦平面定位装置及方法

权利要求书

1.激光微束背部辐照芯片试验的聚焦平面定位装置，用于对被测器件进行聚焦平面定位，其特征在于，所述装置包括试验用激光源(1)、聚焦光路调节模块(2)、CCD成像模块(3)、三维移动台(4)及三维移动台控制模块(5)；

所述试验用激光源(1)，用于发射固定参数的脉冲激光；

所述聚焦光路调节模块(2)，用于对所述试验用激光源(1)发射的脉冲激光进行调节，使之成为试验用激光微束；

所述CCD成像模块(3)，用于对被测器件的激光反射光斑进行成像，并输出反射光斑成像信号到所述三维移动台控制模块(5)；

所述三维移动台(4)，用于放置被测器件试验电路板；

所述三维移动台控制模块(5)，包括第一CCD成像处理单元和第一控制单元；

所述第一CCD成像处理单元，用于接收所述CCD成像模块(3)输出的反射光斑成像信号，进行成像对比度检测后形成反馈信号指令，输出到所述第一控制单元；

所述第一控制单元，用于接收所述第一CCD成像处理单元发送的反馈信号指令，形成方向和距离的移动控制信号，输出到所述三维移动台(4)，自动调节所述三维移动台(4)的位置，当调节到反射光斑的亮度最大值的位置时，完成扫描过程的聚焦平面定位。

2.根据权利要求1所述的激光微束背部辐照芯片试验的聚焦平面定位装置，其特征在于，所述装置进一步包括：器件电学特征采集分析处理模块(6)，所述三维移动台控制模块(5)还包括电学特征处理单元和第二控制单元；

所述器件电学特征采集分析处理模块(6)，用于接收被测器件试验电路板输出的信号，并将处理后的信号输出到所述电学特征处理单元；

所述电学特征处理单元，用于接收所述器件电学特征采集分析处理模块(6)输出的信号，并进行统计分析处理，形成反馈信号指令，输出到所述第二控制单元；

所述第二控制单元，用于接收所述电学特征处理单元发送的反馈信号指令，形成方向和距离的移动控制信号，输出到所述三维移动台(4)，自动调节所述三维移动台(4)的位置，当调节到电学响应特征最敏感的位置时，完成扫描过程中的聚焦平面定位。

3.根据权利要求1所述的激光微束背部辐照芯片试验的聚焦平面定位装置，其特征在于，所述装置进一步包括：照明用光源(7)，所述三维移动台控制模块(5)还包括第二CCD成像处理单元和第三控制单元；

所述照明用光源(7)，用于发射照明光到被测器件上，所述CCD成像模块(3)会对所述被测器件的金属反射层进行成像；并将成像信号输出到所述第二CCD成像处理单元；所述第二CCD成像处理单元根据成像的清晰度输出反馈信号指令到所述第三控制单元；

所述第二CCD成像处理单元，用于接收所述CCD成像模块(3)输出的成像信号，进行成像清晰度检测后形成反馈信号指令，输出到所述第三控制单元；

所述第三控制单元，用于接收所述第二CCD成像处理单元发送的反馈信号指令，形成方向和距离的移动控制信号，输出到所述三维移动台(4)，自动调节所述三维移动台(4)的位置，当调节到成像清晰度最大值的位置时，完成扫描过程的聚焦平面定位。

4.根据权利要求2所述的激光微束背部辐照芯片试验的聚焦平面定位装置，其特征在于，所述装置进一步包括：照明用光源(7)；所述三维移动台控制模块(5)还包括第二CCD成像处理单元和第三控制单元；

所述照明用光源(7)，用于发射照明光到被测器件上，所述CCD成像模块(3)会对所述被测器件的金属反射层进行成像；并将成像信号输出到所述第二CCD成像处理单元；所述第二CCD成像处理单元根据成像的清晰度输出反馈信号指令到所述第三控制单元；

所述第二CCD成像处理单元，用于接收所述CCD成像模块(3)输出的成像信号，进行成像清晰度检测后形成反馈信号指令，输出到所述第三控制单元；

所述第三控制单元，用于接收所述第二CCD成像处理单元发送的反馈信号指令，形成方向和距离的移动控制信号，输出到所述三维移动台(4)，自动调节所述三维移动台(4)的位置，当调节到成像清晰度最大值的位置时，完成扫描过程的聚焦平面定位。