[发明专利]光控制装置及其制作方法、3D打印系统在审
| 申请号: | 201510251241.8 | 申请日: | 2015-05-15 |
| 公开(公告)号: | CN105082535A | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
| 发明(设计)人: | 李文波 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | B29C64/264 | 分类号: | B29C64/264;B33Y30/00 |
| 代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 林桐苒;曲鹏 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 控制 装置 及其 制作方法 打印 系统 | ||
1.一种光控制装置制作方法,其特征在于,所述光控制装置用于光固化液态材料选择区域固化成型的3D打印,包括:
形成包括像素阵列及黑矩阵的阵列基板,使所述黑矩阵至少形成在所述像素阵列的薄膜晶体管对应的区域;所述薄膜晶体管为顶栅结构,所述黑矩阵与形成在其上方的薄膜晶体管之间间隔有绝缘间隔层,所述薄膜晶体管的源漏电极设置在所述绝缘间隔层上,所述黑矩阵、绝缘间隔层、源漏电极和有源层在一次掩膜中形成;
将所述阵列基板和对置基板对盒,在盒内填充液晶并密封,并在阵列基板背离对置基板的表面形成第一偏振片,在对置基板背离阵列基板的表面形成第二偏振片;所述对置基板为透明无色的基板;
所述形成包括像素阵列及黑矩阵的阵列基板,使所述黑矩阵位于所述像素阵列的薄膜晶体管对应的区域的步骤包括:
在衬底基板上依次形成第一金属薄膜、绝缘薄膜、第二金属薄膜、N+a-Si薄膜和光刻胶;
对光刻胶进行曝光显影,保留薄膜晶体管及数据线对应区域的光刻胶,且使源漏电极区域及数据线区域的光刻胶厚度大于其他区域光刻胶的厚度;
刻蚀暴露出来的第一金属薄膜、绝缘薄膜、第二金属薄膜和N+a-Si薄膜;
灰化光刻胶,只保留源漏极区域及数据线区域对应的光刻胶;
刻蚀暴露出的第二金属薄膜和N+a-Si薄膜,形成源漏电极、N+a-Si层及数据线的图形;
形成包括有源层、栅绝缘层、栅极、栅线、像素电极及钝化层的图形。
2.一种采用如权利要求1所述光控制装置制作方法制作的光控制装置,其特征在于,包括:第一偏振片、第二偏振片、阵列基板、与所述阵列基板对置的对置基板以及位于阵列基板和对置基板之间的液晶,所述对置基板为透明无色的基板,所述第一偏振片位于阵列基板背离对置基板的表面,所述第二偏振片位于对置基板背离阵列基板的表面;所述阵列基板包括:衬底基板、形成在衬底基板上的像素阵列及黑矩阵,所述黑矩阵为于阵列基板上且至少形成在所述像素阵列的薄膜晶体管对应的区域,所述光控制装置用于光固化液态材料选择区域固化成型的3D打印;所述薄膜晶体管为顶栅结构,所述黑矩阵与形成在其上方的薄膜晶体管之间间隔有绝缘间隔层,所述薄膜晶体管的源漏电极设置在所述绝缘间隔层上,所述黑矩阵、绝缘间隔层、源漏电极和有源层在一次掩膜中形成。
3.如权利要求2所述的光控制装置,其特征在于,所述黑矩阵形成在衬底基板面向所述对置基板的表面上,且为金属材料制成。
4.一种3D打印系统,其特征在于,包括:背光源、升降杆托板、透明储液槽及权利要求2~3中任一项所述的光控制装置,所述背光源发出的光透过所述光控制装置照射到所述透明储液槽,所述升降杆托板位于所述透明储液槽内。
5.如权利要求4所述的3D打印系统,其特征在于,所述光控制装置的阵列基板的一侧为出光侧,对置基板的一侧为入光侧。
6.如权利要求4所述的3D打印系统,其特征在于,所述背光源为发出紫外光的背光源。
7.如权利要求4~6中任一项所述的3D打印系统,其特征在于,还包括:用于冷却所述光控制装置的冷却装置。
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