[发明专利]一种高纯度无水氧化硼的浇注成型方法及系统

权利要求书

1.一种高纯度无水氧化硼的浇注成型方法，其特征在于，包括如下步骤：

将氧化硼或硼酸投入熔炼坩埚中；

制造真空环境；

在所述真空环境中将所述熔炼坩埚中的所述无水氧化硼加热至液态并进行真空脱水；

脱水完成后关闭真空环境；

预热产品坩埚；

用升降台调节所述产品坩埚的高度，调节出料控制杆，将液态无水氧化硼注入所述产品坩埚；

通过电子衡实时监测所述液态无水氧化硼的浇注量，控制产品重量。

2.根据权利要求1所述的高纯度无水氧化硼的浇注成型方法，其特征在于，所述熔炼坩埚的材质为铂。

3.根据权利要求1所述的高纯度无水氧化硼的浇注成型方法，其特征在于，所述真空环境的真空度为0.01～100Pa。

4.根据权利要求1所述的高纯度无水氧化硼的浇注成型方法，其特征在于，所述出料控制杆的材质为铂，形状与所述熔炼坩埚底部的出料口一致。

5.根据权利要求1所述的高纯度无水氧化硼的浇注成型方法，其特征在于，所述无水氧化硼的纯度为99.999％。

6.一种高纯度无水氧化硼的浇注成型系统，包括真空装置，炉管，加热装置，水冷装置，其特征在于，还包括出料控制杆，熔炼坩埚，坩埚支撑架，电子衡，产品坩埚和升降台；所述真空装置与所述炉管相连；所述熔炼坩埚底部有锥形出料孔；所述熔炼坩埚位于所述炉管的内部；所述坩埚支撑架位于所述熔炼坩埚下方，用于支撑所述熔炼坩埚；所述水冷装置位于所述炉管周围；所述加热装置位于所述熔炼坩埚周围，用于加热所述熔炼坩埚；所述出料控制杆位于所述熔炼坩埚内部；所述出料控制杆一端形状与所述锥形出料孔一致，用于控制出料；所述电子衡位于所述升降台上，用于实时称量所述锥形出料孔的出料重量；所述升降台用于调节所述电子衡的高度；所述产品坩埚位于所述电子衡上，与所述锥形出料孔垂直对应。

7.根据权利要求6所述的高纯度无水氧化硼的浇注成型系统，其特征在于，所述熔炼坩埚的材质为铂，所述锥形出料孔的锥度为0～20°，所述锥形出料孔的最小圆直径为5～15mm。