[发明专利]双面硬化膜与包括该双面硬化膜的电容式触摸屏

说明书

本发明提供了一种双面硬化膜与包含该双面硬化膜的电容式触摸屏。该双面硬化膜包括：第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层，PET基材层设置在第一硬涂层的表面上；第二硬涂层设置在PET基材层的远离第一硬涂层的表面上，其中，第二硬涂层的厚度为1.5～2.5μm。该双面硬化膜第二硬涂层的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足了客户的需求。

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，具体而言，涉及一种双面硬化膜与包括该双面硬化膜的电容式触摸屏。

背景技术

电容式触摸屏是一块四层复合玻璃屏，一般包括由上至下设置的：基板、感应层、OCA胶层与显示屏，其中，感应层中包含基材与设置在基材表面上的ITO导电层。

目前，上述的基材为双面硬化膜，如图1所示，该膜包括：第一硬涂层10’、PET基材层20’、第二硬涂层30’与保护膜40’，PET基材层20’设置在第二硬涂层30’的表面上，第一硬涂层10’设置在PET基材层20’的远离第二硬涂层30’的表面上，保护膜40’设置在第二硬涂层30’的远离PET基材层20’的表面上。

上述双硬化膜使得ITO导电层的刻蚀一般采用油墨网印和黄光蚀刻，因为双面硬化膜在溅射过程中需要镀一层Nb₂O₅，该镀膜层在经过上述油墨网印和黄光蚀刻后易被镭射，，蚀刻后需高温烘烤1h。在烘烤时，第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层由于具有较大的收缩率而发生收缩，ITO导电层被蚀刻的纹路会因为第一硬涂层、PET基材层或第二硬涂层的收缩而变形，使得蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，立体纹会逐渐显露。目前，常规的第一硬涂层与第二硬涂层的厚度达到4～5μm，有些甚至6～7μm，第一硬涂层与第二硬涂层的厚度增加加剧了第一硬涂层与第二硬涂层的收缩，使得立体纹更加明显；另外，上述双面硬化膜的雾度一般为0.3～0.5％，不能对立体纹进行有效遮掩，并且保护膜的厚度也较小，一般为50μm，也不能对立体纹进行有效遮掩。由此可见，现有技术的电容式触摸屏具有明显的立体纹，无法满足部分客户需求。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种双面硬化膜与包含该双面硬化膜的电容式触摸屏，以解决现有技术中双面硬化膜的立体纹较明显的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种双面硬化膜，该双面硬化膜包括：第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层，上述PET基材层设置在上述第一硬涂层的表面上；上述第二硬涂层设置在上述PET基材层的远离上述第一硬涂层的表面上，其中，上述第二硬涂层的厚度为1.5～2.5μm。

进一步地，上述第二硬涂层的厚度为1.5～2.0μm，优选为1.8μm。

进一步地，上述第一硬涂层的厚度为1.5～2.5μm，优选为1.5～2.0μm，更优选为1.8μm。

进一步地，上述第二硬涂层包括第二涂层主体和分散在上述第二涂层主体中的第二氧化物粒子，优选上述第二涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。

进一步地，上述第二氧化物粒子的含量为1～20wt％，优选为1～8wt％。

进一步地，上述第一硬涂层包括第一涂层主体和分散在上述第一涂层主体中的第一氧化物粒子，优选上述第一涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。

进一步地，上述第一氧化物粒子的含量为1～20wt％，优选为1～8wt％。

进一步地，上述第二氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子，上述第一氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子。